[发明专利]用于液滴沉积装置的方法、装置和控制系统有效
申请号: | 202080023472.2 | 申请日: | 2020-04-09 |
公开(公告)号: | CN113613910B | 公开(公告)日: | 2023-07-25 |
发明(设计)人: | J·加西亚马扎;奈杰尔·希瑟;托马斯·塞尔尼;彼得·波尔特里克;马里奥·玛苏奇 | 申请(专利权)人: | 赛尔科技有限公司 |
主分类号: | B41J2/01 | 分类号: | B41J2/01;B41J2/07;B41J29/38;B41M5/00 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 齐加文;杨明钊 |
地址: | 英国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 沉积 装置 方法 控制系统 | ||
一种用于减少液滴沉积装置的喷嘴弯月面不稳定性的方法,该方法包括以下步骤:(a)接收第一行像素的第一数据块和第二行像素的第二数据块;(b)接收引起弯月面的谐波/次谐波激励并导致弯月面不稳定性的禁用像素周期的数据集;(c)基于禁用像素周期的数据集来确定第一抖动延迟值;(d)基于第一数据块来生成第一打印数据,其中第一打印数据包括定义由第一抖动延迟值确定的第一保持周期以及一个或更多个驱动脉冲的数据;以及(e)基于第二数据块来生成第二打印数据,其中第二打印数据包括定义一个或更多个驱动脉冲的数据,在由第一和第二打印数据定义的一个或更多个驱动脉冲中的每个第一驱动脉冲之间的时间确定第一像素周期;其中第一和第二打印数据用于生成用于根据第一和第二打印数据控制液滴沉积装置的至少一个致动元件的第一和第二致动元件信号;使得每个驱动脉冲使致动元件从液滴沉积装置的相应喷嘴喷射至少一个液滴;以及第一抖动延迟值调整第一像素周期以落在禁用像素周期的数据集之外,以便减少喷嘴弯月面不稳定性的出现。
发明领域
本发明涉及用于液滴沉积装置的方法、装置和控制系统。它可以在包括液滴沉积头(例如喷墨打印头)的打印机及用于其的方法和控制系统中找到特别有益的应用。
背景
液滴沉积装置已广泛地用于各种应用,例如喷墨打印、3D打印或其他材料沉积或快速原型设计技术。如可被预期的,不同的应用具有不同的需求,包括具有不同化学性质的不同流体到不同介质上的喷射。
不同的介质对沉积方法和装置提出了不同的且越来越有挑战性的要求。因此,液滴沉积装置的领域继续发展和专业化,面临新的和苛刻的问题并不断获得新的改进和解决方案。
概述
本发明的方面在所附独立权利要求中被阐述,而本发明的特定实施例在所附从属权利要求中被阐述。
根据本发明的第一方面,提供了一种用于减少液滴沉积装置的喷嘴弯月面不稳定性的方法,该方法包括以下步骤:
(a)接收第一行像素的第一数据块和第二行像素的第二数据块;
(b)接收引起弯月面的谐波/次谐波激励并导致弯月面不稳定性的禁用像素周期的数据集;
(c)基于禁用像素周期的数据集来确定第一抖动延迟值;
(d)基于第一数据块来生成第一打印数据,其中
第一打印数据包括定义由第一抖动延迟值确定的第一保持周期以及一个或更多个驱动脉冲的数据;以及
(e)基于第二数据块来生成第二打印数据,其中
第二打印数据包括定义一个或更多个驱动脉冲的数据,由第一和第二打印数据定义的一个或更多个驱动脉冲中的每个第一驱动脉冲之间的时间确定第一像素周期;
其中第一和第二打印数据用于生成用于根据第一和第二打印数据控制液滴沉积装置的至少一个致动元件的第一和第二致动元件信号;
使得每个驱动脉冲使致动元件从液滴沉积装置的相应喷嘴喷射至少一个液滴;以及
第一抖动延迟值调整第一像素周期以落在禁用像素周期的数据集之外,以便减少喷嘴弯月面不稳定性的出现。
根据本发明的第二方面,提供了一种用于液滴沉积装置的控制系统,该控制系统被配置为实现根据本发明的第一方面的方法。
根据本发明的第三方面,提供了一种用于液滴沉积装置的控制系统,该控制系统包括被配置为实现根据本发明的第一方面的方法的第一控制器以及被配置为实现一个或更多个另外的步骤的第二控制器。
根据本发明的第四方面,提供了一种计算机程序,其当由液滴沉积装置的一个或更多个控制器执行时使控制器执行根据本发明的第一方面的方法。
附图简述
现在参考附图,其中:
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