[发明专利]不可知化合物洗脱测定在审
| 申请号: | 202080021682.8 | 申请日: | 2020-03-10 |
| 公开(公告)号: | CN113574629A | 公开(公告)日: | 2021-10-29 |
| 发明(设计)人: | N·G·布洛姆菲尔德;L·伯顿;J·L·坎培尔;D·M·考克斯;E·杜乔斯拉夫;A·S-H·劳乌 | 申请(专利权)人: | DH科技发展私人贸易有限公司 |
| 主分类号: | H01J49/00 | 分类号: | H01J49/00;H01J49/10;H01J49/40;H01J49/04 |
| 代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 赵方鲜 |
| 地址: | 新加坡*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 不可知 化合物 洗脱 测定 | ||
1.用于检测未知化合物从样品中分离的设备,包含:
分离装置,其基于一种或多种未知化合物的性质在分离时间段内从样品中分离所述一种或多种未知化合物中的每一种;
离子源装置,其电离从所述分离装置接收的分离的化合物,产生针对所述一种或多种未知化合物中的每一种的一种或多种化合物母离子和多种背景母离子;
包括质量分析器的质谱仪,其中所述质量分析器在跨越分离时间段的多个时间步长中的每个时间步长测量从所述离子源装置接收的组合的化合物和背景母离子的母离子质谱图,产生多张母离子质谱图,其中所述质谱仪从所述多张母离子质谱图中选择一种或多种背景母离子,其具有低于所述质量分析器预期的阈值分辨率的范围内的分辨率,并且其中当一种或多种选择的背景母离子的强度测量在一个时间段内的降低超过强度随时间的阈值降低时,所述质谱仪检测到一种或多种未知化合物之一的分离时间。
2.根据权利要求1所述的设备,其中母离子的所述分辨率包含所述母离子的质荷比(m/z)峰的中心质荷比(m/z)除以所述m/z峰的半峰全宽(FWHM)。
3.根据权利要求2所述的设备,其中范围包含在4,000和8,000之间的分辨率。
4.根据权利要求2所述的设备,其中所述阈值分辨率包含30,000。
5.根据权利要求1所述的设备,其中所述分离装置包含液相色谱装置、气相色谱装置、毛细管电泳装置,或离子迁移装置。
6.根据权利要求1所述的设备,其中所述离子源装置包含电喷雾离子源(ESI)装置、电子碰撞源和快原子轰击源装置、大气压化学电离源(APCI)装置、大气压光电离(APPI)源装置,或基质辅助激光解吸源(MALDI)装置。
7.根据权利要求1所述的设备,其中所述质量分析器包含飞行时间(TOF)质量分析器、四极杆、离子阱、线性离子阱、轨道阱、磁性四扇区质量分析器、混合四极杆飞行时间(Q-TOF)质量分析器,或傅里叶变换质量分析器。
8.根据权利要求1所述的设备,其中当所述质谱仪检测到所述分离时间时,所述质谱仪向所述质谱仪的使用者报告化合物成功地从所述样品中采样的确认。
9.根据权利要求1所述的设备,其中当所述一种或多种选择的背景母离子的强度测量在一个时间段内的降低超过强度随时间的阈值降低时,所述质谱仪进一步计算所述一种或多种选择的背景母离子的强度测量在一个时间段内的对应增加,产生一种或多种背景离子的计算的反向分离峰。
10.根据权利要求9所述的设备,所述质谱仪进一步计算所述多张母离子质谱图中的一种或多种母离子的提取离子色谱图(XIC),识别所述XIC的分离峰的特征,并将所述分离峰的特征和所述反向分离峰的特征进行比较,以确认所述XIC的分离峰的特征。
11.根据权利要求10所述的设备,其中分离峰的特征包含所述分离峰的中心时间、所述分离峰的开始时间、所述分离峰的结束时间、所述分离峰的形状、所述分离峰的面积,或所述分离峰的半峰全宽(FWHM)。
12.根据权利要求1所述的设备,其中所述质谱仪进一步包括质量过滤器和碎裂装置,并且其中当所述质谱仪检测到所述分离时间时,所述质量过滤器选择质量范围并且所述碎裂装置将所述质量范围内的所有母离子碎裂,产生一张或多张子离子质谱图。
13.根据权利要求12所述的设备,其中当所述质谱仪在信息依赖采集(IDA)方法中检测到所述分离时间,并且没有检测到IDA方法的峰列表的质荷比(m/z)峰时,所述质量过滤器选择质量范围,并且所述碎裂装置将所述质量范围内的所有母离子碎裂,产生一张或多张子离子质谱图。
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