[发明专利]利用空间变化偏振转子及偏振器进行敏感性粒子检测

权利要求书

1.一种检验系统，其包括：

照射源，其经配置以产生照射束；

一或多个照射光学器件，其用以将所述照射束沿着照射方向以离轴角度引导到样本；

一或多个聚光光学器件，其用以在暗场模式中响应于所述照射束而聚集来自所述样本的散射光；

偏振转子，其位于所述一或多个聚光光学器件的光瞳面处，其中所述偏振转子提供被选择成将从所述样本的表面散射的光旋转到选定偏振角度的空间变化偏振旋转角度，其中所述偏振转子包含有角度分段式半波片，所述有角度分段式半波片包含具有经定向以在所述光瞳面中的顶点处相交的边缘的多个分段，其中所述顶点对应于所述光瞳面中的所述照射束的镜面反射；

偏振器，其经对准以拒斥沿着所述选定偏振角度发生偏振的光；及

检测器，其用以基于由所述偏振器传递的所述光而产生所述样本的暗场图像，其中由所述偏振器传递的所述光包含由所述样本的所述表面上的一或多个粒子散射的光的至少一部分。

2.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述一或多个照射光学器件经配置以在p偏振下将所述照射束引导到所述样本。

3.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述偏振器包括：

偏振分束器，其中所述偏振分束器沿着第一光路引导来自所述样本的由所述偏振器传递的所述散射光，其中所述偏振分束器沿着与所述第一光路不同的第二光路引导来自所述样本的由所述偏振器拒斥的所述散射光。

4.根据权利要求3所述的检验系统，其进一步包括：

额外检测器，其经配置以基于来自所述样本的由所述偏振器沿着所述第二光路拒斥的所述散射光而产生所述样本的暗场图像，其中来自所述样本的由所述偏振器拒斥的所述散射光包含在选定拒斥容差内由所述样本的所述表面散射的光。

5.根据权利要求1所述的检验系统，其中从所述样本的所述表面散射的所述光具有已知电场分布，其中所述偏振转子经配置以将由所述已知电场分布偏振的光旋转到所述选定偏振角度。

6.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述光瞳面中的所述顶点的位置位于与由所述一或多个聚光光学器件聚集的光相关联的聚光区域之外。

7.根据权利要求1所述的检验系统，其中所述光瞳面中的所述顶点的位置位于与由所述一或多个聚光光学器件聚集的光相关联的聚光区域之内。

8.一种检验设备，其包括：

偏振转子，其位于暗场成像系统的光瞳面处，其中所述暗场成像系统包含用以响应于离轴照射而聚集来自样本的散射光的一或多个聚光光学器件，其中所述偏振转子提供被选择成将从所述样本的表面散射的光旋转到选定偏振角度的空间变化偏振旋转角度，其中所述偏振转子包含有角度分段式半波片，所述有角度分段式半波片包含多个分段，所述多个分段具有经定向以在所述光瞳面中的顶点处相交的边缘，其中所述顶点对应于所述光瞳面中的照射束的镜面反射。

9.根据权利要求8所述的检验设备，其中所述偏振转子经配置以与偏振器耦合，所述偏振器经对准以拒斥沿着所述选定偏振角度发生偏振的光来拒斥从所述样本的表面散射的所述光。

10.根据权利要求8所述的检验设备，其中从所述样本的所述表面散射的所述光具有已知电场分布，其中所述偏振转子经配置以将由所述已知电场分布偏振的光旋转到所述选定偏振角度。

11.根据权利要求8所述的检验设备，其中所述设备进一步包括：所述偏振转子，所述偏振转子经对准以拒斥沿着所述选定偏振角度发生偏振的光来拒斥从所述样本的表面散射的所述光。