[发明专利]包括多个单太赫茲磁振子激光器的太赫茲磁振子产生器在审

专利信息
申请号: 202080016908.5 申请日: 2020-01-09
公开(公告)号: CN113767531A 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: N·J·基什内尔;B·G·坦克希列维奇;C·T·瑟曼 申请(专利权)人: 玛格特拉公司
主分类号: H01S1/02 分类号: H01S1/02
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人: 程伟;王锦阳
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 包括 多个单太赫茲磁振子 激光器 太赫茲磁振子 产生器
【权利要求书】:

1.一种用于产生可调式太赫茲辐射的设备,包括:

多个太赫茲磁振子激光产生器;

至少一个该太赫茲磁振子激光产生器包括:

基板;

底部电极,耦合至该基板;以及

多层柱,耦合至该底部电极;以及

太赫茲透明介质,用以将至少两个该太赫茲磁振子激光产生器分开,

其中,至少一个该太赫茲磁振子激光产生器配置成产生太赫茲辐射信号;

且其中,该设备配置成发射该太赫茲辐射信号,而该太赫茲辐射信号配置成通过该太赫茲透明介质进行传播。

2.如权利要求1所述的设备,其中,至少一个该多层柱还包括:

底层,耦合至该底部电极;该底层还包括磁振子增益介质;

穿隧结,耦合至该底层;

顶层,耦合至该穿隧结;该顶层包括电子注入器;以及

顶部电极,耦合至该顶层。

3.如权利要求1所述的设备,其中,至少一个该多层柱还包括:

底层,耦合至该底部电极;该底层还包括磁振子增益介质;

穿隧结,耦合至该底层;

顶层,耦合至该穿隧结;该顶层包括自旋注入器;

钉扎层,耦合至该自旋注入器;以及

顶部电极,耦合至该钉扎层。

4.如权利要求2所述的设备,其中,该底层还包括选自由以下组成的群组的铁磁材料:

铁磁半导体;稀磁半导体(DMS);半金属铁磁体(HMF);以及铁磁导体,在该铁磁材料的费米能级周围的少数电子的状态密度中存在间隙。

5.如权利要求4所述的设备,其中,该半金属铁磁体(HMF)选自由以下组成的群组:

自旋极化的何士勒合金;自旋极化的巨磁阻材料;以及CrO2

6.如权利要求5所述的设备,其中,该自旋极化的何士勒合金选自由以下组成的群组:

半金属铁磁氧化物Sr2FeMoO6;何士勒合金Co2MnGe;何士勒合金Co2MnSi(CMS);何士勒合金Co2FeSi(CFS);何士勒合金Co2MnSn;以及何士勒合金Co2FeAl0.5Si0.5(CFAS)。

7.如权利要求2所述的设备,其中,该穿隧结选自由以下组成的群组:

氧化镁(MgO);氧化铝(Al2O3);以及尖晶石MgAl2O4

8.如权利要求3所述的设备,其中,该自旋注入器选自由以下组成的群组:

半金属;以及铁磁合金。

9.如权利要求3所述的设备,其中,该钉扎层还包括:

反铁磁钉扎层,选自由以下材料组成的群组:

铱锰铬(IrMnCr);铱锰(IrMn);镍锰(NiMn);镍锰铬(NiMnCr);镍锰铁(NiMnFe);镍锰铱(NiMnIr);镍锰钯(NiMnPd);镍锰铂(NiMnPt);镍锰铑(NiMnRh);铂锰(PtMn);以及镍锰钌(NiMnRu)。

10.如权利要求3所述的设备,其中,该钉扎层还包括:

Ruderman–Kittel–Kasuya–Yosida(RUDERMAN–KITTEL–KASUYA–YOSIDA(RKKY))非磁性钉扎层。

11.如权利要求12所述的设备,其中,该基板选自由以下材料组成的群组:

砷化镓(GaAs);氧化铝(Al2O3);氮化铝(AlN);氧化铟锡(InTnO);硅(Si);蓝宝石上硅(SoS);以及氧化镁(MgO)。

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