[发明专利]包括多个单太赫茲磁振子激光器的太赫茲磁振子产生器在审
| 申请号: | 202080016908.5 | 申请日: | 2020-01-09 |
| 公开(公告)号: | CN113767531A | 公开(公告)日: | 2021-12-07 |
| 发明(设计)人: | N·J·基什内尔;B·G·坦克希列维奇;C·T·瑟曼 | 申请(专利权)人: | 玛格特拉公司 |
| 主分类号: | H01S1/02 | 分类号: | H01S1/02 |
| 代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人: | 程伟;王锦阳 |
| 地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 包括 多个单太赫茲磁振子 激光器 太赫茲磁振子 产生器 | ||
1.一种用于产生可调式太赫茲辐射的设备,包括:
多个太赫茲磁振子激光产生器;
至少一个该太赫茲磁振子激光产生器包括:
基板;
底部电极,耦合至该基板;以及
多层柱,耦合至该底部电极;以及
太赫茲透明介质,用以将至少两个该太赫茲磁振子激光产生器分开,
其中,至少一个该太赫茲磁振子激光产生器配置成产生太赫茲辐射信号;
且其中,该设备配置成发射该太赫茲辐射信号,而该太赫茲辐射信号配置成通过该太赫茲透明介质进行传播。
2.如权利要求1所述的设备,其中,至少一个该多层柱还包括:
底层,耦合至该底部电极;该底层还包括磁振子增益介质;
穿隧结,耦合至该底层;
顶层,耦合至该穿隧结;该顶层包括电子注入器;以及
顶部电极,耦合至该顶层。
3.如权利要求1所述的设备,其中,至少一个该多层柱还包括:
底层,耦合至该底部电极;该底层还包括磁振子增益介质;
穿隧结,耦合至该底层;
顶层,耦合至该穿隧结;该顶层包括自旋注入器;
钉扎层,耦合至该自旋注入器;以及
顶部电极,耦合至该钉扎层。
4.如权利要求2所述的设备,其中,该底层还包括选自由以下组成的群组的铁磁材料:
铁磁半导体;稀磁半导体(DMS);半金属铁磁体(HMF);以及铁磁导体,在该铁磁材料的费米能级周围的少数电子的状态密度中存在间隙。
5.如权利要求4所述的设备,其中,该半金属铁磁体(HMF)选自由以下组成的群组:
自旋极化的何士勒合金;自旋极化的巨磁阻材料;以及CrO2。
6.如权利要求5所述的设备,其中,该自旋极化的何士勒合金选自由以下组成的群组:
半金属铁磁氧化物Sr2FeMoO6;何士勒合金Co2MnGe;何士勒合金Co2MnSi(CMS);何士勒合金Co2FeSi(CFS);何士勒合金Co2MnSn;以及何士勒合金Co2FeAl0.5Si0.5(CFAS)。
7.如权利要求2所述的设备,其中,该穿隧结选自由以下组成的群组:
氧化镁(MgO);氧化铝(Al2O3);以及尖晶石MgAl2O4。
8.如权利要求3所述的设备,其中,该自旋注入器选自由以下组成的群组:
半金属;以及铁磁合金。
9.如权利要求3所述的设备,其中,该钉扎层还包括:
反铁磁钉扎层,选自由以下材料组成的群组:
铱锰铬(IrMnCr);铱锰(IrMn);镍锰(NiMn);镍锰铬(NiMnCr);镍锰铁(NiMnFe);镍锰铱(NiMnIr);镍锰钯(NiMnPd);镍锰铂(NiMnPt);镍锰铑(NiMnRh);铂锰(PtMn);以及镍锰钌(NiMnRu)。
10.如权利要求3所述的设备,其中,该钉扎层还包括:
Ruderman–Kittel–Kasuya–Yosida(RUDERMAN–KITTEL–KASUYA–YOSIDA(RKKY))非磁性钉扎层。
11.如权利要求12所述的设备,其中,该基板选自由以下材料组成的群组:
砷化镓(GaAs);氧化铝(Al2O3);氮化铝(AlN);氧化铟锡(InTnO);硅(Si);蓝宝石上硅(SoS);以及氧化镁(MgO)。
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