[发明专利]导电膜

权利要求书

1.一种形成一透明导电膜的转换方法，该转换方法包含：

提供具有一粘着剂的一施体基板的一区域，该粘着剂包含悬浮在一光敏聚合材料的多个金属纳米结构；

将该施体基板和该粘着剂施加于一受体基板上；

从施加于该受体基板的该粘着剂上移除该施体基板；

使用光刻法图案化该粘着剂；以及

使用一显影液显影被图案化的该粘着剂，该显影液：(i)根据该粘着剂的一图案移除该光敏聚合材料的一部分，且(ii)包含提供该多个金属纳米结构的蚀刻的一纳米结构蚀刻剂。

2.如权利要求1所述的转换方法，其中该显影液显影被图案化的该粘着剂和蚀刻该多个金属纳米结构是一单一步骤的一部分。

3.如权利要求1所述的转换方法，其中该显影液包含碳酸钠和在氧气存在下的一复合碱基。

4.如权利要求1所述的转换方法，其中该显影液包含在氧气存在下的氨。

5.如权利要求1所述的转换方法，其中该显影液包含一碱基和一氧化剂。

6.如权利要求1所述的转换方法，其中纳米结构蚀刻剂在多个图案边缘截断该多个金属纳米结构。

7.如权利要求1所述的转换方法，其中纳米结构蚀刻剂防止纳米结构超出该多个图案边缘。

8.如权利要求1所述的转换方法，其中该多个纳米结构为多个纳米线。

9.一种形成一透明导电膜的方法，该方法包含：

提供具有一粘着剂的一基板的一区域，该粘着剂包含悬浮在一光敏聚合材料的多个金属纳米结构；

使用光刻法图案化该光敏聚合材料；以及

使用一显影液显影被图案化的该粘着剂，该显影液：(i)根据该粘着剂的一图案移除该光敏聚合材料的一部分，且(ii)包含蚀刻该多个金属纳米结构的一纳米结构蚀刻剂。

10.如权利要求9所述的方法，其中该显影液显影被图案化的该粘着剂和蚀刻该多个金属纳米结构是一单一步骤的一部分。

11.如权利要求9所述的方法，其中该显影液包含碳酸钠和在氧气存在下的一复合碱基。

12.如权利要求9所述的方法，其中该显影液包含在氧气存在下的氨。

13.如权利要求9所述的方法，其中该显影液包含一碱基和一氧化剂。

14.如权利要求9所述的方法，其中纳米结构蚀刻剂在多个图案边缘截断该多个金属纳米结构。

15.如权利要求9所述的方法，其中纳米结构蚀刻剂防止纳米结构超出该多个图案边缘。

16.如权利要求9所述的方法，其中该多个纳米结构为多个纳米线。

17.一透明导电膜，包含：

一基板；

一粘着剂，以一图案呈现在该基板上，该图案具有多个边缘；以及

多个金属纳米结构，悬浮在该粘着剂中，其中在多个图案边缘的多个纳米结构被截断；

该图案具有透过光刻法创造的多个边缘，其中粘着剂材料和多个纳米结构被一溶液蚀刻，该溶液包含蚀刻该多个纳米结构的金属的一成分。

18.如权利要求17所述的透明导电膜，其中该纳米结构不从该图案边缘伸出。

19.如权利要求17所述的透明导电膜，其中该多个纳米结构为多个纳米线。