[发明专利]获得涂覆有功能层的基材的方法

说明书

本发明涉及一种获得材料的方法，该材料包括在其侧面之一涂覆有包含功能层的涂层的基材，所述方法包括：‑在基材上沉积功能层的步骤，然后‑在所述功能层的上部沉积吸收层的步骤，然后‑通过辐射方式进行热处理的步骤，所述辐射具有包括在200至2500nm之间的至少一个处理波长，在该热处理步骤期间所述吸收层与空气接触，其特征在于，吸收层吸收热处理期间中所用辐射的至少80%并且其透射率小于10%。

本发明涉及获得涂覆有至少一层功能层的基材。

一些功能层需要热处理，以改善其性能，或甚至赋予其功能。例如，可以提及基于银或透明导电氧化物(TCO)的低发射率功能层，其发射率和电阻率在热处理之后降低。基于氧化钛的光催化层在热处理后也更具活性，因为热处理促进晶体生长。热处理还可以在基于二氧化硅的层中产生孔隙，以降低其光反射系数。

申请WO 2010/139908公开了一种使用聚焦在层上的辐射，特别是红外激光辐射的热处理方法。这种处理允许非常快速地加热层而不显著加热基材。通常，在处理期间中，与承载层的一侧相对的基材一侧上的任何点的温度不超过150℃，或甚至不超过100℃。其他类型的辐射，例如来自闪光灯的辐射，也可用于相同目的。

然而，有些层吸收很少的红外辐射，因此大部分辐射能量通过材料而不会显著加热它。为了克服这个问题，已经提出在待处理的涂层上添加辐射吸收层。

为了能够高速处理宽基材，例如来自浮法方法的超大尺寸 (6 m × 3 m) 平玻璃板，必须有很长 ( 3 m) 的激光线可用。然而，在实践中很难保证整条线路和时间的稳定功率。与基材的其余部分相比，沿着激光线的功率强度过高和/或功率强度不足会导致在这些区域下方通过的基材部分的处理不均匀性。激光线宽度的变化也是如此。由于不规则的行进速度或导致基材位置相对于激光焦平面发生变化的振动，传送系统也可能导致处理不均匀性。对于某些层，这些处理的不均匀性可能足以在最终产品上造成可见的缺陷（特别是在行进方向或与其垂直的方向上产生谱系（lineage）的光透射(optical transmission)变化）。当使用闪光灯处理大尺寸基材时，特别是在处理区域的重叠处，会出现相同的现象。

另一方面，基材传送的变化，例如传送速度或基材相对于辐射源的位置的变化，也会导致影响涂层的能量数量发生变化，并从而影响处理的均匀性。

本发明提出通过使用大量吸收辐射并且仅允许微量辐射通过的层来进一步改进该方法。

因此，本发明的主题是一种获得材料的方法，该材料包括在其侧面之一涂覆有包含功能层的涂层的基材，所述方法包括：

- 在基材上沉积功能层的步骤，然后

-在所述功能层的上部沉积吸收层的步骤，然后

-通过辐射方式进行热处理的步骤，所述辐射具有包括在200至2500nm之间的至少一个处理波长，在该热处理步骤期间所述吸收层与空气接触，

其特征在于，吸收层吸收热处理期间中所用辐射的至少80%并其透射率小于10%。

因此，本发明的主题是一种获得材料的方法，该材料包括在其侧面之一涂覆有包含功能层的涂层的基材，所述方法包括：

- 在基材上沉积功能层的步骤，然后

-在所述功能层的上部沉积吸收层的步骤，然后

-通过辐射方式进行热处理的步骤，所述辐射具有包括在200至2500nm之间的至少一个处理波长，在该热处理步骤期间所述吸收层与空气接触，

其特征在于，所述吸收层对热处理期间所用辐射的吸收/透射比大于8。

本发明还涉及一种获得材料的方法，该材料包括在其侧面之一涂覆有包含功能层的涂层的基材，所述方法包括：

- 在基材上沉积功能层的步骤，然后

-在所述功能层的上部沉积吸收层的步骤，然后

-通过辐射方式进行热处理的步骤，所述辐射具有包括在200至2500nm之间的至少一个处理波长，在该热处理步骤期间所述吸收层与空气接触，