[发明专利]成像方法、成像装置、区分成像对象的方法有效
| 申请号: | 202080006332.4 | 申请日: | 2020-11-06 |
| 公开(公告)号: | CN113615149B | 公开(公告)日: | 2023-05-23 |
| 发明(设计)人: | 川岛安武 | 申请(专利权)人: | OPTO电子有限公司 |
| 主分类号: | H04N23/56 | 分类号: | H04N23/56;H04N23/74;G06K7/10 |
| 代理公司: | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人: | 南霆 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 成像 方法 装置 区分 对象 | ||
1.一种通过包括成像器和照明器的成像装置进行成像的成像方法,所述照明器被配置为照明所述成像器的成像对象,所述方法包括:
根据各个成像条件执行各个成像,每个所述成像条件包括所述成像器的曝光时间和所述照明器对所述成像对象的照明量;
将通过各个成像获得的各个图像的亮度和所述各个图像的所述成像条件的各个组合存储在存储器中;
基于存储在所述存储器中的亮度和成像条件的组合,获得指示所述曝光时间的变化对图像亮度的影响程度的第一参数的估计以及指示所述照明量的变化对图像亮度的影响程度的第二参数的估计;以及
基于所述第一参数的估计和所述第二参数的估计,确定将在下一次成像中使用的成像条件。
2.根据权利要求1所述的成像方法,其中所述照明器的照明时间用作指示所述照明器对所述成像对象的照明量的值。
3.根据权利要求2所述的成像方法,还包括:
基于所述第一参数的估计和所述第二参数的估计来确定所述曝光时间和所述照明时间之间的关系,使得所述照明时间越长,所述曝光时间变得越短,以及所述照明时间越短,所述曝光时间变得越长,
其中,所述将在下一次成像中使用的成像条件被确定以满足所确定的关系。
4.根据权利要求3所述的成像方法,其中,
所述将在下一次成像中使用的成像条件被确定,使得满足所述曝光时间和所述照明时间之间的关系,以及所述照明时间与所述曝光时间的比值与最新成像条件中的比值相差预定阈值或者更多。
5.根据权利要求3所述的成像方法,其中,
所述将在下一次成像中使用的成像条件被确定,使得所述照明时间与所述曝光时间的比值与所述第二参数的估计与所述第一参数的估计的比值尽可能接近。
6.一种成像装置,包括:
成像器;
照明器,被配置为照明所述成像器的成像对象;
控制器,被配置为根据各个成像条件来控制所述成像器和所述照明器,以执行各个成像,每个所述成像条件包括所述成像器的曝光时间和所述照明器对所述成像对象的照明量;
存储器,被配置为将通过各个成像获得的各个图像的亮度和所述各个图像的成像条件的各个组合存储在内存中;
成像条件确定器,被配置为基于存储在所述存储器中的所述亮度和所述成像条件的组合,获得指示所述曝光时间的变化对图像亮度的影响程度的第一参数的估计以及指示所述照明量的变化对图像亮度的影响程度的第二参数的估计,以及基于所述第一参数的估计和所述第二参数的估计,确定将在下一次成像中使用的成像条件。
7.根据权利要求6所述的成像装置,其中所述照明器的照明时间用作指示所述照明器对所述成像对象的照明量的值。
8.根据权利要求7所述的成像装置,其中,
所述成像条件确定器被配置为基于所述第一参数的估计和所述第二参数的估计来确定所述曝光时间和所述照明时间之间的关系,使得所述照明时间越长,所述曝光时间变得越短,以及所述照明时间越短,所述曝光时间变得越长,以及确定所述将在下一次成像中使用的成像条件以满足所确定的关系。
9.根据权利要求8所述的成像装置,其中,
所述成像条件确定器被配置为确定所述将在下一次成像中使用的成像条件,使得满足所述曝光时间和所述照明时间之间的关系,以及所述照明时间与所述曝光时间的比值与最新成像条件中的比值相差预定阈值或者更多。
10.根据权利要求8或9所述的成像装置,其中,
所述成像条件确定器被配置为确定所述将在下一次成像中使用的成像条件,使得所述照明时间与所述曝光时间的比值与所述第二参数的估计与所述第一参数的估计的比值尽可能接近。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于OPTO电子有限公司,未经OPTO电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202080006332.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:基于嵌入的图像搜索检索
- 下一篇:旋转电机的定子以及旋转电机





