[发明专利]修饰核苷及其合成方法

权利要求书

1.一种具有化学式(I)的化合物：

或其药学上可接受的盐，其中：

R¹、R²、R⁴和R⁵各自独立地选自以下集合所包括的基团，该集合由-H、-OH、-NH₂、卤素基团、C₁-C₁₀烷基、-OR⁶以及-N(R⁶)₂组成；

R³选自以下集合所包括的基团，该集合由-OR⁶、磷酸基、二磷酸基以及三磷酸基组成；以及其中，R⁶为-H。

2.根据权利要求1所述的化合物，其中R¹、R²、R⁴和R⁵各自独立为-H、-OH或C₁-C₁₀烷基。

3.根据权利要求1所述的化合物，其中R¹为-OH。

4.根据权利要求1所述的化合物，其中R²为-OH。

5.根据权利要求1所述的化合物，其中R³为-OH。

6.根据权利要求1所述的化合物，其中R⁴为-H。

7.根据权利要求1所述的化合物，其中R⁵为-H。

8.根据权利要求7所述的化合物，具有化学式(I-a)的结构：

9.根据权利要求1所述的化合物，其中R²为-H。

10.根据权利要求1所述的化合物，具有化学式(I-b)的结构：

11.根据权利要求4所述的化合物，其中R²为-OH且R³为磷酸基。

12.根据权利要求11所述的化合物，具有化学式(I-c)的结构：

13.根据权利要求9所述的化合物，其中R²为-H且R³为磷酸基。

14.根据权利要求13所述的化合物，具有化学式(I-d)的结构：

15.根据权利要求4所述的化合物，其中R²为-OH且R³为三磷酸基。

16.根据权利要求15所述的化合物，具有化学式(I-e)的结构：

17.根据权利要求9所述的化合物，其中R²为-H且R³为三磷酸基。

18.根据权利要求17所述的化合物，具有化学式(I-f)的结构：

19.一种修饰核苷三磷酸(NTP)具有化学式(I-g)的结构：

其中，Y⁺选自由Li⁺、Na⁺、K⁺、H⁺、NH₄⁺以及四烷基铵离子组成的组。