[实用新型]带有加热与缓冷的反萃液深度除硅磷生产设备

权利要求书

1.带有加热与缓冷的反萃液深度除硅磷生产设备，用于处理络合物反萃液，其特征在于，包括：

反应槽，用于进行所述络合物反萃液的除硅磷反应，所述反应槽上设置有沉淀剂投放口；

加热组件，所述加热组件设置于所述反应槽上，所述加热组件用于对所述反应槽加热；

冷却组件，包括缓冷槽、冷却器和冷却管道，所述缓冷槽与所述反应槽通过第一输送管道连接，所述缓冷槽与所述冷却器通过所述冷却管道连接；

压滤组件，所述压滤组件包括压滤机，所述压滤机与所述缓冷槽通过第二输送管道连接，所述压滤机用于压滤所述络合物反萃液并得到澄清液。

2.根据权利要求1所述的带有加热与缓冷的反萃液深度除硅磷生产设备，其特征在于，所述加热组件包括蒸汽输入管道、螺旋盘管和回流管道，所述螺旋盘管设置于所述反应槽内，所述螺旋盘管的两端分别连接于所述蒸汽输入管道和所述回流管道。

3.根据权利要求1所述的带有加热与缓冷的反萃液深度除硅磷生产设备，其特征在于，所述反应槽上设置有搅拌桨，所述搅拌桨用于搅拌所述反应槽内的络合物反萃液。

4.根据权利要求3所述的带有加热与缓冷的反萃液深度除硅磷生产设备，其特征在于，还包括驱动电机，所述驱动电机连接于所述搅拌桨以驱动所述搅拌桨转动。

5.根据权利要求4所述的带有加热与缓冷的反萃液深度除硅磷生产设备，其特征在于，所述反应槽包括槽体和槽盖，所述槽盖盖合于所述槽体的顶部，所述搅拌桨设置于所述槽盖上并能够伸入所述槽体内部，所述沉淀剂投放口设置于所述槽盖上。

6.根据权利要求1所述的带有加热与缓冷的反萃液深度除硅磷生产设备，其特征在于，所述冷却组件还包括冷却泵，所述冷却泵设置于所述冷却管道上，所述冷却泵用于将所述络合物反萃液在所述缓冷槽与所述冷却器之间循环输送。

7.根据权利要求1所述的带有加热与缓冷的反萃液深度除硅磷生产设备，其特征在于，还包括第一输送泵，所述第一输送泵设置于所述第一输送管道上，所述第一输送泵用于将所述反应槽内的所述络合物反萃液输送至所述缓冷槽。

8.根据权利要求1所述的带有加热与缓冷的反萃液深度除硅磷生产设备，其特征在于，还包括第二输送泵，所述第二输送泵设置于所述第二输送管道上，所述第二输送泵用于将所述缓冷槽内的所述络合物反萃液输送至所述压滤机。

9.根据权利要求1至8任一项所述的带有加热与缓冷的反萃液深度除硅磷生产设备，其特征在于，还包括输入管道和输出管道，所述输入管道连接于所述反应槽，所述输出管道连接于所述压滤机。

10.根据权利要求1至8任一项所述的带有加热与缓冷的反萃液深度除硅磷生产设备，其特征在于，所述压滤组件还包括滤液中转槽，所述滤液中转槽连接于所述压滤机，所述滤液中转槽用于储存澄清液。