[实用新型]一种微型工件的PVD遮蔽装置有效
申请号: | 202023346449.3 | 申请日: | 2020-12-31 |
公开(公告)号: | CN214361640U | 公开(公告)日: | 2021-10-08 |
发明(设计)人: | 蔡喜斌;丁振勇;沈雄飞;薛春天;王大洪;阮志明;姚峰;华秀菊 | 申请(专利权)人: | 深圳市正和忠信股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04 |
代理公司: | 深圳智趣知识产权代理事务所(普通合伙) 44486 | 代理人: | 崔艳峥 |
地址: | 518000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 微型 工件 pvd 遮蔽 装置 | ||
本实用新型提供了一种微型工件的PVD遮蔽装置,包括微型工件,微型工件包括两个柱状结构,柱状结构设有凹槽,微型工件的PVD遮蔽装置包括长条底板、固定弹片、支撑弹片和遮蔽件;固定弹片包括一个固定端和两个支撑端,固定端设置在长条底板上,柱状结构位于遮蔽件中,两个支撑端伸入遮蔽件中并卡入凹槽;支撑弹片的一端设置在长条底板上,另一端与遮蔽件抵接,遮蔽件用于遮蔽柱状结构。本实用新型能够结构紧凑,能够牢牢地固定微型工件,固定性能良好,在镀膜过程中不会有工件掉落;装卸方便;装载量大,能够大大提高装炉量,降低生产成本。
技术领域
本实用新型属于真空镀膜辅助设备技术领域,更具体的涉及一种微型工件的PVD遮蔽装置。
背景技术
由于传统的电镀工艺污染严重,不符合国家的环保要求,而PVD是一种无污染的环保型表面处理方法。PVD(物理气相沉积工艺),是指在真空条件下,用物理的方法使材料沉积在被镀工件上的薄膜制备技术。由于PVD技术镀膜与工件表面的结合力强、更加持久和耐磨、膜层性能稳定、安全性能高,得到了越来越广泛的应用,因此PVD为当下首选的表面处理方法。
随着科技的进步,3C数码产品竞争的激烈程度日趋增加,这对3C数码产品的外观要求也越来越高,从而对PVD镀膜的要求也日益提高。在对一些如手机按键等微型工件进行真空镀膜时,仅需要对某些部位进行镀膜,就需要对其他不需要镀膜的部位进行遮蔽处理,遮蔽要求高。现有的遮蔽装置结构松散,不能稳定地固定住工件,对遮蔽部位往往不能起到很好地遮蔽作用,导致溢镀比例高达50%,不具备量产条件;装卸工件方式复杂,导致装炉量少,生产成本高。
综上所述,现有技术的遮蔽装置不能起到很好地遮蔽作用,所以需要对现有技术进行改进以克服上述问题。
实用新型内容
基于上述现有技术的缺陷与不足,本实用新型的目的在于提供一种微型工件的PVD遮蔽装置,对于微型工件具有良好的效果,能够有效遮蔽不能有镀层的工件区域。
本实用新型的目的通过下述技术方案实现:
一种微型工件的PVD遮蔽装置,包括微型工件,所述微型工件包括两个柱状结构,所述柱状结构设有凹槽,其特征在于,所述微型工件的PVD遮蔽装置包括长条底板、固定弹片、支撑弹片和遮蔽件;
所述固定弹片包括一个固定端和两个支撑端,所述固定端设置在所述长条底板上,所述柱状结构位于所述遮蔽件中,两个所述支撑端伸入所述遮蔽件中并卡入所述凹槽;
所述支撑弹片的一端设置在所述长条底板上,另一端与所述遮蔽件抵接,所述遮蔽件用于遮蔽所述柱状结构。
进一步,所述固定弹片为一体成型结构,所述固定端位于所述固定弹片的中部,两个所述支撑端分别位于所述固定弹片的两端。
进一步,所述支撑弹片为一体成型结构,包括抵接部、支撑部和卡扣,所述抵接部与所述卡扣通过所述支撑部连接。
进一步,所述抵接部抵接所述遮蔽件,所述卡扣用于将所述固定弹片固定在所述长条底板上。
进一步,所述抵接部的两侧设置有侧垫片。
进一步,所述支撑端设有折弯部。
进一步,所述长条底板的两端设有用于固定所述长条底板的固定孔。
进一步,所述长条底板相对于所述固定弹片的背面设置有插接弹片,所述插接弹片用于固定所述长条底板。
进一步,设定一个所述固定弹片、一个所述支撑弹片、一个所述遮蔽件、两个所述侧垫片和一个微型工件的组合为一个单元,所述长条底板上按照预设间隔设置有多个单元。
进一步,所述固定弹片与所述长条底板之间设有焊接结构。
本实用新型相对于现有技术具有的优点及效果:
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