[实用新型]一种表面等离激元增强型LED有效
| 申请号: | 202023326858.7 | 申请日: | 2020-12-31 | 
| 公开(公告)号: | CN213936218U | 公开(公告)日: | 2021-08-10 | 
| 发明(设计)人: | 李国强;柴华卿;姚书南;林志霆;王文樑 | 申请(专利权)人: | 华南理工大学 | 
| 主分类号: | H01L33/40 | 分类号: | H01L33/40;H01L33/32;H01L33/06;H01L33/00;B82Y40/00;B82Y10/00 | 
| 代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 陈智英 | 
| 地址: | 510640 广*** | 国省代码: | 广东;44 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 表面 离激元 增强 led | ||
1.一种表面等离激元增强型LED,其特征在于:包括导电衬底,第一绝缘层,金属P电极,金属纳米层,金属键合层,柱状N电极,第二绝缘层,DBR反射层,p型GaN层,InGaN/GaN多量子阱层,n型GaN层;所述导电衬底上依次形成金属键合层,第二绝缘层,DBR反射层,p型GaN层,InGaN/GaN多量子阱层,n型GaN层;所述金属P电极依次贯穿于导电衬底,金属键合层,第二绝缘层,DBR反射层,直至金属P电极的端部延伸至p型GaN层内部;延伸至p型GaN层内部的金属P电极的一端设有金属纳米层;所述第一绝缘层位于金属P电极的表面,金属P电极的两端无第一绝缘层,第一绝缘层也依次贯穿于导电衬底,金属键合层,第二绝缘层,DBR反射层,至p型GaN层内部;所述柱状N电极依次贯穿于第二绝缘层,DBR反射层,p型GaN层,InGaN/GaN多量子阱层,直至n型GaN层的内部,柱状N电极未穿透n型GaN层;所述柱状N电极的表面设有绝缘层,该绝缘层与第二绝缘层形成整体,所述柱状N电极两端未设有绝缘层。
2.根据权利要求1所述表面等离激元增强型LED,其特征在于:所述柱状N电极的表面设有的绝缘层依次贯穿于DBR反射层,p型GaN层,InGaN/GaN多量子阱层,直至n型GaN层的内部;
金属纳米层位于金属P电极和p型GaN接触界面。
3.根据权利要求1所述表面等离激元增强型LED,其特征在于:或者所述柱状N电极还贯穿于导电衬底和金属键合层,即柱状N电极依次贯穿于导电衬底、金属键合层、第二绝缘层、DBR反射层、p型GaN层、InGaN/GaN多量子阱层、直至n型GaN层的内部;此时贯穿于导电衬底和金属键合层的N电极的表面设有绝缘层,且N电极的下端无绝缘层,下端包括端面和贯穿于导电衬底的部分表面。
4.根据权利要求1所述表面等离激元增强型LED,其特征在于:金属P电极和p型GaN的界面处,金属纳米层与金属P电极所形成的端面为水平面或齿形。
5.根据权利要求1所述表面等离激元增强型LED,其特征在于:所述金属纳米层为Ag纳米柱、Ag纳米盘、Ag纳米颗粒中一种以上;
第一绝缘层的材质为SiO2;第二绝缘层的材质为SiO2。
6.根据权利要求1所述表面等离激元增强型LED,其特征在于:所述DBR反射层为SiO2/TiO2周期材料,为5-18个周期,每个周期厚度为50-200nm;
所述柱状N电极为Ti、Cr、Ag、Au、Pt中一种以上;
所述金属P电极为Cr、Pt、Au中的一种以上;
所述金属键合层为Ni、Au、Sn、Ti中的一种以上。
7.根据权利要求1所述表面等离激元增强型LED,其特征在于:所述金属纳米层的直径为50-3000nm、高度为50-500nm;
所述导电衬底为SiC衬底或者Si衬底,厚度为50-500μm;所述第一绝缘层和第二绝缘层为SiO2绝缘层,独自的厚度为100-2000nm;
所述柱状N电极的高度为2-10μm;
所述金属键合层的厚度为500nm-5μm;
所述N电极的个数≥2。
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