[实用新型]一种控制啁啾皮尔斯高斯涡旋光束聚焦深度和强度的系统有效
| 申请号: | 202023324157.X | 申请日: | 2020-12-31 |
| 公开(公告)号: | CN214201971U | 公开(公告)日: | 2021-09-14 |
| 发明(设计)人: | 林泽嘉;吴攸;丘蕙欣;傅新铭;陈凯慧;邓冬梅 | 申请(专利权)人: | 华南师范大学 |
| 主分类号: | G02F1/01 | 分类号: | G02F1/01;G02F1/13;G02F1/35 |
| 代理公司: | 广州容大知识产权代理事务所(普通合伙) 44326 | 代理人: | 潘素云 |
| 地址: | 510006 广东省广州市番禺区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 控制 啁啾 皮尔斯 涡旋 光束 聚焦 深度 强度 系统 | ||
1.一种控制啁啾皮尔斯高斯涡旋光束聚焦深度和强度的系统,其特征在于,包括:
分体式氦氖激光器,用于发射高斯光束;
半波片和偏振分束立方,用于控制高斯光束的功率;
扩束准直系统,用于使入射光束的光强均匀分布,使光束的质量更好;
非偏振分束立方,用于分束光束并产生干涉;
液晶空间光调制器,其加载有掩模板,掩模板包括啁啾皮尔斯高斯涡旋光束的初始光场平面的傅里叶变换图,用于对入射光束进行调制,变换入射光束波前;
第一傅里叶透镜,用于对光束进行傅里叶变换调制;
可调光阑,用于在第一傅里叶透镜的像方焦平面上选取正一级干涉条纹;
第二傅里叶透镜,用于对光束进行又一次的傅里叶变换调制,提取出远场上正一级干涉条纹所携带的啁啾皮尔斯高斯涡旋光束信息;
第三傅里叶透镜,用于对光束进行再一次的傅里叶变换调制,获得啁啾皮尔斯高斯涡旋光束的初始光场;
抛物势介质,用于提供光束传输所需的外部环境;光束在抛物势介质中周期性传输,光束的聚焦深度和强度能够通过改变液晶空间光调制器上的傅里叶变换图所携带的啁啾因子信息和抛物势介质的折射率分布情况进行控制;
CMOS摄像机,用于观察在传输距离范围内的光束。
2.根据权利要求1所述的控制啁啾皮尔斯高斯涡旋光束聚焦深度和强度的系统,其特征在于,所述控制啁啾皮尔斯高斯涡旋光束聚焦深度和强度的系统还包括第一反射镜,位于第二傅里叶透镜和第三傅里叶透镜之间,用于改变光束的传输方向,使从第二傅里叶透镜出来的光束传输至第三傅里叶透镜。
3.根据权利要求1所述的控制啁啾皮尔斯高斯涡旋光束聚焦深度和强度的系统,其特征在于,所述控制啁啾皮尔斯高斯涡旋光束聚焦深度和强度的系统还包括第二反射镜,位于第三傅里叶透镜和抛物势介质之间,用于改变光束的传输方向,使从第三傅里叶透镜出来的光束传输至抛物势介质。
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