[实用新型]一种新型陶瓷釉料干粉静电喷涂设备有效

专利信息
申请号: 202023291222.3 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN214687138U 公开(公告)日: 2021-11-12
发明(设计)人: 王欢 申请(专利权)人: 四川香莹科技有限公司
主分类号: B28B11/04 分类号: B28B11/04
代理公司: 广州海藻专利代理事务所(普通合伙) 44386 代理人: 郑凤姣
地址: 635000 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 陶瓷 釉料 干粉 静电 喷涂 设备
【说明书】:

本实用新型公开了一种新型陶瓷釉料干粉静电喷涂设备,涉及陶瓷喷釉技术领域,包括外壳,所述外壳内部中间设置有喷涂室,且喷涂室内部顶端设置有固定台,所述固定台两侧皆设置有喷涂臂,且喷涂臂内部设置有连通固定台的输料槽,所述喷涂臂内侧设置有三组与输料槽配合的电离喷雾头,所述外壳内部底端设置有电机室。本实用新型通过电机带动旋转杆,从而使喷涂台托着待喷涂物件匀速旋转,并通过喷涂臂配合电离喷雾头对物件进行均匀喷涂,避免人工喷涂水平参差不齐,喷涂不均等情况;且通过除尘风扇将喷涂室内游离的粉料抽至回料仓,并在喷涂结束后通过电磁阀将回收的粉料排放至主料仓,从而避免原料的浪费,有效的利用的原料。

技术领域

本实用新型涉及陶瓷喷釉技术领域,具体为一种新型陶瓷釉料干粉静电喷涂设备。

背景技术

施釉工序是衡量陶瓷制品质量的重要指标之一,也是陶瓷制品表面装饰生产中的重要一环,施釉质量的好坏直接影响陶瓷产品质量的优劣,目前大多采用电离喷雾施釉。

但现有陶瓷釉料干粉静电喷涂多采用人工手持,或摆臂加工,施釉不均匀,导致最后成品质量不稳定,且现有设备由于没有配套且有效的粉尘回收系统,喷涂后大量游离粉末被浪费。

发明内容

本实用新型的目的在于:为了解决现有陶瓷釉料干粉静电喷涂设备手工施釉不均、浪费严重的问题,提供一种新型陶瓷釉料干粉静电喷涂设备。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种新型陶瓷釉料干粉静电喷涂设备,包括外壳,所述外壳内部中间设置有喷涂室,且喷涂室内部顶端设置有固定台,所述固定台两侧皆设置有喷涂臂,且喷涂臂内部设置有连通固定台的输料槽,所述喷涂臂内侧设置有三组与输料槽配合的电离喷雾头,所述外壳内部底端设置有电机室,且电机室内部底部设置有电机底座,所述电机底座一侧安装有电机,且电机顶部输出端设置有贯穿外壳并延伸至喷涂室内部的旋转杆,所述旋转杆顶部设置有喷涂台,所述电机室内部底端与旋转杆之间连接有接地杆,且接地杆底部设置有贯穿并延伸至外壳底部外侧的接地片,所述接地片与外壳底部之间连接有弹簧,所述外壳内部一端设置有主料仓,且主料仓顶部设置有回料仓,所述回料仓与主料仓之间连接有集料斗,且集料斗底部连通有电磁阀,所述喷涂室与回料仓之间连通有除尘风扇。

优选地,所述外壳底部四角皆设置有支撑腿,所述外壳远离主料仓一端外侧设置有控制面板。

优选地,所述主料仓与固定台之间连通有与输料槽配合的送料管。

优选地,所述外壳远离主料仓一端设置有与喷涂室配合的拉门,且拉门内部中间设置有与喷涂室配合的观察窗。

优选地,所述回料仓内部靠近除尘风扇一端设置有与之配合的单向阀。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型通过电机带动旋转杆,从而使喷涂台托着待喷涂物件匀速旋转,并通过喷涂臂配合电离喷雾头对物件进行均匀喷涂,避免人工喷涂水平参差不齐,喷涂不均等情况;且通过除尘风扇将喷涂室内游离的粉料抽至回料仓,并在喷涂结束后通过电磁阀将回收的粉料排放至主料仓,从而避免原料的浪费,有效的利用的原料。

附图说明

图1为本实用新型的正剖图;

图2为本实用新型的侧剖图;

图3为本实用新型的俯剖图;

图4为本实用新型的正视图。

图中:1、外壳;2、喷涂室;3、电机室;4、喷涂臂;5、固定台;6、除尘风扇;7、喷涂台;8、旋转杆;9、接地杆;10、电机底座;11、弹簧;12、接地片;13、电机;14、支撑腿;15、送料管;16、控制面板;17、电离喷雾头;18、回料仓;19、主料仓;20、集料斗;21、电磁阀;22、输料槽;23、拉门;24、观察窗。

具体实施方式

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