[实用新型]具有炫丽金属质感的改善型镀膜膜层结构

权利要求书

1.一种具有炫丽金属质感的改善型镀膜膜层结构，其特征在于：在电子产品壳体上的基板(10)背面转印一层UV纹理层(20)，再于UV纹理层(20)表面镀膜，镀膜膜层(30)为多层结构，第一层(31)ZRO₂层，第二层(32)为TI₃O₅层，第三层(33)是SIO₂层，第四层(34)为TI₃O₅层，第五层(35)为SIO₂层，第六层(36)为TI₃O₅层；第一层(31)直接镀在UV纹理层(20)上作为打底，第六层(36)作为面层。

2.根据权利要求1所述的具有炫丽金属质感的改善型镀膜膜层结构，其特征在于：所述基板(10)为PET、PC或亚克力板材。

3.根据权利要求1所述的具有炫丽金属质感的改善型镀膜膜层结构，其特征在于：所述基板(10)是手机背板，具有一平面(11)和设置于平面(11)周沿的弧形围边(12)，构成手机背板的3D结构。

4.根据权利要求3所述的具有炫丽金属质感的改善型镀膜膜层结构，其特征在于：所述手机背板的平板上设有摄像头通孔(13)，所述摄像头通孔(13)位于手机背板之上侧角落位置。

5.根据权利要求1所述的具有炫丽金属质感的改善型镀膜膜层结构，其特征在于：所述手机背板的平板上设有指纹解锁通孔(14)，所述指纹解锁通孔(14)位于手机背板之中部靠上侧。

6.根据权利要求3所述的具有炫丽金属质感的改善型镀膜膜层结构，其特征在于：所述弧形围边(12)由第一端(15)到第二端(16)逐渐变薄，但镀膜膜层(30)在手机背板的平面(11)和弧形围边(12)上厚度均匀一致。

7.根据权利要求1所述的具有炫丽金属质感的改善型镀膜膜层结构，其特征在于：所述UV纹理层(20)的厚度为120-150nm，所述镀膜膜层(30)的总厚度为320-380 nm。

8.根据权利要求7所述的具有炫丽金属质感的改善型镀膜膜层结构，其特征在于：所述第一层(31)ZRO₂层的厚度为20nm，第二层(32)为TI₃O₅层的厚度为80nm，第三层(33)是SIO₂层的厚度为70nm，第四层(34)为TI₃O₅层的厚度为65nm，第五层(35)为SIO₂层的厚度为90nm，第六层(36)为TI₃O₅层的厚度为25nm。