[实用新型]一种用于晶圆的超声波清洗设备有效

专利信息
申请号: 202023254842.X 申请日: 2020-12-30
公开(公告)号: CN215142797U 公开(公告)日: 2021-12-14
发明(设计)人: 余涛;朴灵绪;郭巍 申请(专利权)人: 若名芯半导体科技(苏州)有限公司
主分类号: B08B3/12 分类号: B08B3/12;B08B13/00
代理公司: 苏州铭浩知识产权代理事务所(普通合伙) 32246 代理人: 朱斌兵
地址: 215000 江苏省苏州市工业园*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 超声波 清洗 设备
【权利要求书】:

1.一种用于晶圆的超声波清洗设备,包括清洗箱,清洗箱内具有容纳腔,且所述容纳腔内设有晶圆放置盒;所述晶圆放置盒的一侧设有导液管;超声波设备设于所述晶圆放置盒一侧,其特征在于,还包括:

旋转电机,所述旋转电机设于所述晶圆放置盒上,用于将晶圆放置盒旋转;

微调机构,两个所述微调机构设于所述清洗箱的两侧外壁上,用于对晶圆放置盒的水平位置进行调整;

水平传感器,所述水平传感器设于所述晶圆放置盒的上端,用于感应晶圆放置盒的位置,并驱动微调机构使晶圆放置盒水平放置。

2.根据权利要求1所述的用于晶圆的超声波清洗设备,其特征在于:所述导液管的数量为两根,且,两个所述导液管分别位于晶圆放置盒的两侧。

3.根据权利要求1所述的用于晶圆的超声波清洗设备,其特征在于:所述容纳腔的底部设有限位槽,所述限位槽用于限位晶圆放置盒的底部。

4.根据权利要求1所述的用于晶圆的超声波清洗设备,其特征在于:所述微调机构为一气缸,所述气缸设于所述清洗箱的外壁上,且,所述气缸的活塞杆上设有连接块,所述连接块上设有与所述晶圆放置盒接触的调整块。

5.根据权利要求1所述的用于晶圆的超声波清洗设备,其特征在于:所述清洗箱一侧还连通有排液框,所述排液框与清洗箱之间设有溢流槽。

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