[实用新型]手动涂胶协助装置

说明书

本实用新型适用于光刻胶涂胶设备领域，提供了一种手动涂胶协助装置，其包括固定支架、倾斜固定在该固定支架上的试管、分别固定在该试管两端且与该试管相连通的漏斗和滴管。本实用新型的手动涂胶协助装置，在涂胶时，将胶体装入漏斗内，胶体在自身重力的作用下，通过试管流入滴管，再在自身重力作用下滴在基材表面，如此，涂胶的速率均衡，因此，基材表面胶体涂布均匀。此外，使用本实用新型的手动涂胶协助装置时，不需要实验者将手伸入机台内部进行涂胶，因此，不存在胶体溅出而对实验者造成伤害的情况。

技术领域

本实用新型属于光刻胶涂胶设备领域，尤其涉及一种手动涂胶协助装置。

背景技术

随着半导体行业的飞速发展，“光刻”这个词已经逐渐变得流行起来。光刻胶材料是光刻技术的关键材料，也是半导体制造的核心材料之一。

涂胶显影机(Track)是光刻胶研发不可缺少的设备，其工作原理是：将光刻胶加仑瓶装入涂胶显影机后，对基材表面进行光刻胶旋涂或者其它试剂的旋涂。在光刻胶的研发阶段，需要进行大量实验，然而因为光刻胶研发阶段均为小样研发，若频繁地将光刻胶装入光刻胶加仑瓶然后装机进行实验，会浪费时间及材料。因此，在光刻胶的研发阶段，只能人工在涂胶显影机的机台里对基材手动涂胶。但是，目前，还没有一个成熟的技术方案可以很好的完成手动涂胶实验，只是简单的将光刻胶从小试剂瓶倒入烧杯，然后人工将烧杯伸入机台里，将胶样倒入基材上进行涂布操作。人工手动倒胶，不能控制实验的精准度，会造成基材表面涂胶不均匀，导致胶膜的厚度范围变大。此外，由于机台内部的光线较暗，基材旋涂的转速较快时，光刻胶可能会溅出，而对实验者造成伤害

实用新型内容

本实用新型实施例提供一种手动涂胶协助装置，旨在解决人工手动涂胶不均匀及存在危险性的问题。

本实用新型实施例是这样实现的，一种手动涂胶协助装置，其包括固定支架、倾斜固定在该固定支架上的试管、分别固定在该试管两端且与该试管相连通的漏斗和滴管。

更进一步地，所述试管具有一第一端部及远离该第一端部的第二端部，该第一端部的高度等于或高于该第二端部的高度，所述漏斗固定在该第一端部，所述滴管固定在该第二端部。

更进一步地，所述固定支架包括底座及垂直安装在该底座上的固定杆，所述试管固定在该固定杆的远离所述底座的一端。

更进一步地，所述试管与所述固定杆相接触的部位为固定部，该固定部为所述试管的中点。

更进一步地，所述试管焊接在所述固定杆上。

更进一步地，所述试管通过固定件固定在所述固定杆上。

更进一步地，所述试管的材质为玻璃、金属或陶瓷。

更进一步地，所述漏斗的材质为玻璃、金属或陶瓷。

更进一步地，所述滴管的材质为玻璃、金属或陶瓷。

更进一步地，所述试管的倾斜角度大于等于0度小于90度。

本实用新型的手动涂胶协助装置包括试管、固定在该试管较高一端且与该试管相连通的漏斗、固定在该试管较低一端且与该试管相连通的滴管，在涂胶时，将胶体装入漏斗内，胶体在自身重力的作用下，通过试管流入滴管，再在自身重力作用下滴在基材表面，如此，涂胶的速率均衡，因此，基材表面胶体涂布均匀。此外，使用本实用新型的手动涂胶协助装置时，不需要实验者将手伸入机台内部进行涂胶，因此，不存在胶体溅出对实验者造成伤害的情况。

附图说明

图1为本实用新型较佳实施方式的手动涂胶协助装置的示意图。

主要元件符号说明