[实用新型]PICP干刻下电氦漏检测设备

权利要求书

1.一种PICP干刻下电氦漏检测设备，其特征在于：所述的PICP干刻下电氦漏检测设备包括设备框架(1)、起吊部件(2)、氦检仪，设备框架(1)上设置检测板定版(3)，检测板定版(3)上表面边沿设置凸起边(4)，凸起边(4)内圈设置密封圈(5)，起吊部件(2)包括起吊部件上组件(6)和起吊部件下组件(7)，起吊部件上组件(6)包括带通孔的上吊具(8)，起吊部件下组件(7)包括设置在设备框架(1)上的固定座(9)，固定座(9)上设置杆件(10)，检测板定版(3)下部安装氦检抽气部件(30)，氦检抽气部件(30)与PICP下电(20)连通，氦检仪与检测板定版(3)连通，下部安装PICP下电(20)设置为能够安装在检测板定版(3)上表面位置的结构。

2.根据权利要求1所述的PICP干刻下电氦漏检测设备，其特征在于：所述的氦检抽气部件(30)包括高真空阀安装板(11)、变径管(12)、真空六通管(13)、多个高真空阀(14)、波纹管(15)。

3.根据权利要求2所述的PICP干刻下电氦漏检测设备，其特征在于：所述的PICP干刻下电氦漏检测设备的氦检抽气部件(30)还包括卡扣(16)、卡箍(17)、波纹管法兰头(18)和法兰盲盘。

4.根据权利要求3所述的PICP干刻下电氦漏检测设备，其特征在于：所述的PICP干刻下电氦漏检测设备的氦检抽气部件(30)的高真空阀安装板(11)安装在设备框架(1)上，卡箍(17)安装在高真空阀安装板(11)上，卡箍(17)用于固定真空六通管(13)，卡扣(16)连接真空六通管(13)和高真空阀(14)，波纹管(15)一端连接波纹管法兰头(18)，波纹管(15)另一端连接高真空阀(14)。

5.根据权利要求4所述的PICP干刻下电氦漏检测设备，其特征在于：所述的波纹管法兰头(18)设置为能够与PICP下电(20)连通的结构，变径管(12)通过卡扣(16)与真空六通管(13)连接在一起，变径管(12)连接分子泵，分子泵作业时，真空六通管(13)另一端设置为能够与法兰盲盘连接实现结构密封的结构。

6.根据权利要求1或2所述的PICP干刻下电氦漏检测设备，其特征在于：所述的起吊部件(2)的起吊部件上组件(6)的上吊具(8)包括多个，多个上吊具(8)沿PICP下电(20)侧面一周按间隙布置，起吊部件下组件(7)设置为与起吊部件上组件(6)数量和位置一一对应的结构，起吊部件下组件(7)的杆件(10)垂直布置。

7.根据权利要求1或2所述的PICP干刻下电氦漏检测设备，其特征在于：所述的下部安装PICP下电(20)安装在检测板定版(3)上表面位置时，PICP下电(20)通过螺丝与检测板定版(3)固定连接，检测板定版(3)下表面的密封板(22)上的螺栓与密封圈(5)连接，实现密封圈(5)的固定并保证密封圈(5)密封的结构；密封板(22)设置为能够对密封圈(5)固定并保证密封圈(5)密封的结构，氦检仪设置为能够对PICP下电(20)通过氦检抽气部件(30)进行氦检的结构。

8.根据权利要求1或2所述的PICP干刻下电氦漏检测设备，其特征在于：所述的PICP干刻下电氦漏检测设备的检测板定版(3)下部设置开槽口(23)，冷却器塞板(24)位于开槽口(23)内，冷却器塞板(24)同时通过螺栓与PICP下电(20)固定连接。

9.根据权利要求1或2所述的PICP干刻下电氦漏检测设备，其特征在于：所述的设备框架(1)包括铝型材本体(26)、角件(27)，铝型材本体(26)和角件(27)固定连接形成设备框架(1)。

10.根据权利要求9所述的PICP干刻下电氦漏检测设备，其特征在于：POM垫块(28)固定在铝型材本体(26)上支撑检测板定版(3)，直角支架(29)固定在铝型材本体(26)上定位检测板定版(3)。