[实用新型]镜头有效

专利信息
申请号: 202023203889.3 申请日: 2020-12-25
公开(公告)号: CN215067473U 公开(公告)日: 2021-12-07
发明(设计)人: 陈航洋;余华杰;李引锋 申请(专利权)人: 宁波舜宇车载光学技术有限公司
主分类号: G02B7/02 分类号: G02B7/02;G02B27/00;G03B30/00
代理公司: 北京英思普睿知识产权代理有限公司 16018 代理人: 刘莹;聂国斌
地址: 315400 浙江*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 镜头
【说明书】:

实用新型提供一镜头,其中所述镜头包括一光学组件、一镜片固定装置以及至少一曲面部,其中所述光学组件被设置于所述镜片固定装置,其中所述至少一曲面部被设置于所述镜片固定装置,所述曲面部邻近于所述镜头的所述光学组件,借以所述曲面部散射所述光线。

技术领域

本实用新型涉及光学技术领域,尤其涉及一镜头,其中所述镜头通过圆角结构改善杂光。

背景技术

随着技术的发展,镜头已经成为日常生活中最常见的电子设备之一,其主要应用于手机、监控设备、雷达、以及其他移动终端设备。镜头的应用范围广泛,并且镜头的种类和结构形式也非常多样,镜头的结构是影响芯片成像,外界光线在进入到镜头后产生的杂散光成为制约成像的一个不可避免的因素。

现有技术的镜头的镜筒或隔圈多为斜面结构设计,当外界光线(如太阳光) 进入所述镜头后,外界光线打到所述镜筒或所述隔圈的斜面上,再经所述斜面反射至芯片面后,在像面上产生一片模糊区域,导致画面不清晰。现有技术消除杂散光的方式主要采用增加消光处理的方式,即通过增设消杂光元件消除杂散光;或者通过加大所述镜头的口径来尽可能避让外界光线。如图1所示,为现有技术的镜头中的斜面结构对杂散光的散射。

光线的漫反射形成的杂散光不可避免地影响到成像质量,但是现有技术的镜头还存在如下至少一方面缺陷:首先,现有技术的镜头的所述镜筒或隔圈斜面的面积普遍较大,在芯片上形成杂光区域较大,从而对画面清晰度有较大的影响。其次,消杂光元件主要通过降低斜面的反射率进行改善,但是由于工艺限制,反射率降低效果在部品间存在波动,特别地,对于能量较强的杂光无法完全改善。另一方面,将斜面的口径加大主要为尽可能的去避让光线,但是镜头的大小存在限制,不可能无限地增大镜头的口径,并且增大镜头口径还会提高镜头的制造成本,不利于产品的良率等。

实用新型内容

本实用新型的一个主要优势在于提供一镜头,其中所述镜头弱化局部面积内的杂光强度,弱化杂光现象。

本实用新型的另一个优势在于提供一镜头,其中所述镜头设有至少一曲面部,由所述曲面部改善所述镜头内的杂散光,使得光线达到区域的光线都散射开,使得在成像面上所成像范围加大,在能量一样强的情况下,局部能量减弱。

本实用新型的另一个优势在于提供一镜头,其中杂散光经所述曲面部后向外散射,使得在芯片所成像的面积加大,局部能量降低,弱化像面中的杂光现象,甚至当能量级低于芯片所成像所需的最低能量级(阈值)时,杂光现象消失,从而降低杂散光对成像的影响。

本实用新型的另一个优势在于提供一镜头,其中所述镜头的曲面部为凸面的圆角结构,相比于斜面结构,可以增加厚度,有利于加工及增加镜筒强度。

本实用新型的另一个优势在于提供一镜头,其中所述镜头的所述曲面部可减少划伤/磕伤等现象,并且可以减少外观不良,提升零部件的良率。

本实用新型的另一个优势在于提供一镜头,其中所述镜头的一镜筒的前端被形成所述曲面部,有利于改善所述镜头的入光口位置处的杂散光。

本实用新型的另一个优势在于提供一镜头,其中所述镜头的所述镜筒的后端被形成所述曲面部,以改善芯片周围产生的杂散光,有利于提高成像质量。

本实用新型的另一个优势在于提供一镜头,其中所述镜头包括一隔圈,所述隔圈被设有一曲面部,有利于减小所述隔圈对杂散光的反射面积,进而改善杂散光,减小杂散光对成像光的影响。

本实用新型的另一个优势在于提供一镜头,其中所述镜头包括一压环,所述压环设有一曲面部,有利于减小所述压环对杂散光的反射面积,进而改善杂散光,减小杂散光对成像光的影响。

本实用新型的另一个优势在于提供一镜头,不需要复杂的机械结构,也不需要昂贵的生产设备。因此,本实用新型成功地提出了一种经济有效的解决方式。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宁波舜宇车载光学技术有限公司,未经宁波舜宇车载光学技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202023203889.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top