[实用新型]双面非球面设计的先天性白内障术后专用镜片及制备模具有效

专利信息
申请号: 202023180253.1 申请日: 2020-12-25
公开(公告)号: CN214174656U 公开(公告)日: 2021-09-10
发明(设计)人: 余浩墨;秦琳玲 申请(专利权)人: 苏州明世光学科技有限公司
主分类号: G02B3/02 分类号: G02B3/02;A61F9/00
代理公司: 苏州简理知识产权代理有限公司 32371 代理人: 杨瑞玲
地址: 215024 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 双面 球面 设计 先天性 白内障 术后 专用 镜片 制备 模具
【说明书】:

本实用新型公开了一种双面非球面设计的先天性白内障术后专用镜片及制备模具,其特征在于:所述镜片的前表面为凸面非球面设计的结构,所述镜片的后表面为中心在20‑40毫米可视范围的凹面草帽设计的结构;所述镜片的后表面中心20‑40毫米可视范围为凸面非球面设计的结构,所述镜片的后表面中心20‑40毫米可视范围内凸面非球面设计的凸面顶点矢高始终低于后表面的凹面草帽设计的凹面边缘的基准面矢高,镜片通过双凸非球面叠加设计获得更好的离轴像质,同时降低了镜片中心厚度,和传统前表面草帽镜片相比,本实用新型提出的镜片在保证成像质量没有下降的前提下,具有镜片质量轻、厚度薄、配戴者戴镜后视觉效果美观等优点。

技术领域

本实用新型涉及一种双面非球面设计的双凸眼用镜片,特别涉及一种适用于婴儿先天性白内障术后使用的双面非球面设计的眼用镜片。

背景技术

先天性白内障(congenital cataract)多在出生前后即已存在,或在儿童期内罹患,白内障其发生率在我国为0.05%。白内障能导致婴幼儿失明或弱视,失明儿童中有22%~30%为白内障所致,是一组严重的致盲疾病,严重影响儿童的视力发育,已成为儿童失明的第二位原因。可为单纯性白内障或伴发眼部及其他全身发育异常。先天性白内障大约有1/3的病例有遗传因素,最常见的为常染色体显性遗传,有的表现为不规则的隔代遗传;隐性遗传多与近亲婚配有关。非遗传性白内障是在胚胎发育过程中由于局部或全身障碍引起的晶状体混浊:孕期胎儿宫内病毒感染,尤其是近年来由于早孕期感染风疹病毒致白内障的高发病率已引起高度重视,发生在妊娠2月内风疹感染所致的白内障发病率可达100%。营养不良及代谢障碍是儿童白内障的另一主要原因,如母体妊娠期糖尿病、甲亢、贫血、低钙、低维生素A、晚期缺氧等,以及新生儿代谢紊乱如低血糖,甲状旁腺功能低,半乳糖血症等。一些理化因素也是病因之一,如出生后因各种危重疾病长时间吸入高压氧、接触射线等。

针对先天性白内障的治疗主要如下:对造成瞳孔区遮挡的白内障,经视功能评估具备基本视觉能力的病例应该及早手术摘除白内障。为防止术后再发生后发性白内障,还应该同期做晶体后囊切开及前部玻璃体切除术。如果确定有严重的眼底、视神经发育异常;主、客观检查不能确定有光机能;合并严重小眼球;合并眼内活动性疾病等情况时不宜手术。术后需要及时验光配镜,佩戴框架眼镜或角膜接触镜矫正。矫正术后屈光不正,进行弱视训练,提高视力。验光要每半年至一年进行一次,及时调整眼镜度数,以适应眼球发育带来的屈光变化。对单眼白内障儿童或双眼白内障术后两眼视力相差悬殊的病例,还要进行遮盖等弱视治疗。或者,根据病情同期或Ⅱ期植入人工晶体。

大多数婴儿先天性白内障术后情况比较正常,但是,需要尽早验光配戴眼镜,因为婴儿眼睛此时还属于高度远视状态,再加上婴幼儿眼球发育的速度也比较快,大多数不能直接植入人工晶体进行治疗,而最佳的矫正远视方法就是选择戴眼镜,等到孩子年龄到了两岁之后才可选择合适的机会进行人工晶体植入手术。晶体摘除后婴儿的眼镜处方度数往往高达 +18~+26D,普通镜片太过厚重,于是传统草帽片应运而生。但是中心30 毫米可视范围的传统草帽片存在外观难看,镜片厚重的缺点,同时由于镜片是球面设计,成像质量较差,用户体验不好。

有鉴于上述的缺陷,本发明人积极加以研究创新,以期创设一种新型结构的双面非球面设计的先天性白内障术后专用镜片及模具,进一步提高成像质量,优化用户体验,使其更具有产业上的利用价值。

实用新型内容

为解决上述技术问题,本实用新型的目的是提供一种新型的双凸双非球面先天性白内障术后镜片,提升优化用户体验、在保证成像质量没有下降的前提下,具有镜片质量轻、厚度薄、配戴者戴镜后视觉效果美观等优点。

为实施上述发明目的,本专利提供了一种双面非球面设计的先天性白内障术后专用镜片:所述镜片的前表面为凸面非球面设计的结构,所述镜片的后表面为中心在20-40毫米可视范围的凹面草帽设计的结构;所述镜片的后表面中心20-40毫米可视范围为凸面非球面设计的结构,所述镜片的后表面中心20-40毫米可视范围内凸面非球面设计的凸面顶点矢高始终低于后表面的凹面草帽设计的凹面边缘的基准面矢高。

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