[实用新型]一种基于新型公共腔结构的介质双工器有效

专利信息
申请号: 202023172503.7 申请日: 2020-12-24
公开(公告)号: CN213546537U 公开(公告)日: 2021-06-25
发明(设计)人: 陈建忠;陈佳;陈源宝;郑纬宇;张恺 申请(专利权)人: 人民华智通讯技术有限公司
主分类号: H01P1/20 分类号: H01P1/20;H01P7/06
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人: 秦广成
地址: 230093 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 新型 公共 结构 介质 双工器
【权利要求书】:

1.一种基于新型公共腔结构的介质双工器,其特征在于,包括:上层滤波器、下层滤波器和公共腔结构,所述上层滤波器、所述下层滤波器和所述公共腔结构分别具有介质谐振腔,所述公共腔结构的介质谐振腔分别与所述上层滤波器和所述下层滤波器的介质谐振腔耦合连接;

在所述公共腔结构上具有抽头馈线结构,所述抽头馈线结构由一个打穿的金属通孔和在所述金属通孔的底部挖去介质块形成的空槽构成。

2.根据权利要求1所述的基于新型公共腔结构的介质双工器,其特征在于,所述公共腔结构的介质谐振腔和所述下层滤波器的介质谐振腔之间,通过弯波导耦合连接。

3.根据权利要求2所述的基于新型公共腔结构的介质双工器,其特征在于,所述弯波导的两端与介质谐振腔的耦合连接处,分别开设有耦合窗口。

4.根据权利要求3所述的基于新型公共腔结构的介质双工器,其特征在于,所述耦合窗口为矩形。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的基于新型公共腔结构的介质双工器,其特征在于,所述上层滤波器和所述下层滤波器上均设有多个介质谐振腔。

6.根据权利要求5所述的基于新型公共腔结构的介质双工器,其特征在于,所述上层滤波器和所述下层滤波器上,用于与所述公共腔结构的介质谐振腔耦合的第一个介质谐振腔上,分别设有磁场压缩通孔。

7.根据权利要求5所述的基于新型公共腔结构的介质双工器,其特征在于,所述上层滤波器和所述下层滤波器上,分别设有至少一个耦合调试孔。

8.根据权利要求5所述的基于新型公共腔结构的介质双工器,其特征在于,所述上层滤波器和所述下层滤波器上,每个所述介质谐振腔上均分别设有调试盲孔。

9.根据权利要求8所述的基于新型公共腔结构的介质双工器,其特征在于,所述上层滤波器和所述下层滤波器上,远离所述公共腔结构的最后一个介质谐振腔的调节盲孔,均分别位于所述上层滤波器和所述下层滤波器的相对的面上;在所述上层滤波器和所述下层滤波器上,与最后一个所述介质谐振腔的调谐盲孔相背的面上,分别设有抽头。

10.根据权利要求5所述的基于新型公共腔结构的介质双工器,其特征在于,所述上层滤波器和所述下层滤波器上的多个介质谐振腔之间,通过隔离墙分隔,所述隔离墙为挖去介质块形成的条形槽。

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