[实用新型]一种光刻胶颗粒度测试装置

说明书

本实用新型适用于光刻胶测试技术领域，提供了一种光刻胶颗粒度测试装置，包括，高位槽，与光刻胶生产线连接用于存储待测光刻胶；颗粒仪，用于测量待测光刻胶的颗粒度；高位槽底部设有进料口；高位槽的侧下方设有出料口；颗粒仪的出口端还设有流量计。本实施例的光刻胶颗粒度测试装置，通过高位槽中待测光刻胶自身重力和出口端的流量计同时作用，使待测光刻胶以稳定的流速进入颗粒仪，简化了操作，提高了测试精度。解决了光刻胶颗粒度测试时，因流量不稳导致仪器容易报错的问题；并且相对于现有在进口端通过阀门需要实时调节的方法，简化了操作，可重复操作性高，并大大缩短了光刻胶产品生产时颗粒度检测的时间，提升了数据可靠性和重复性。

技术领域

本实用新型属于光刻胶技术领域，尤其涉及一种光刻胶颗粒度测试装置。

背景技术

颗粒度是先进光刻胶产品在生产时的关键指标，反映了光刻胶的洁净度，一般需要管控0.15微米精度的颗粒。光刻胶在大规模生产要求颗粒度在不同批次下能保持稳定。低的颗粒度能保证芯片不会在制造过程中被光刻胶沾污，减少缺陷的产生，提高芯片的良率和电路性能。能否在规模化生产时稳定地实现颗粒度控制是先进光刻胶产品产业化成功与否的关键之一。

光刻胶产品的颗粒度控制离不开专业的分析设备。在芯片厂主要使用表面颗粒仪(SP2、SP5、SP7)对涂胶后的晶圆进行颗粒扫描，而一般的光刻胶企业不具备表面颗粒仪。通常光刻胶产品中颗粒度分析仪器主要是日本理音公司提供。该款设备提供在线和离线两种测试模式。其中离线模式是通过取样式测试，无法满足生产测试需求。因此，主要的测试手段是在线测试时。根据颗粒仪的技术参数，通常需要规定待测光刻胶样品的流量是5-10mL/min左右。而在光刻胶液体在管道内流动时，由于管道压力差，会产生细小的气泡。这些小气泡在通过液体颗粒仪后，会导致仪器报错，影响测试结果。同时，使用泵进行物料输送时，管道内光刻胶的流速也存在波动。不稳定的流速，使仪器的测试流量不稳定，导致测试数据不稳。

此外，颗粒仪在使用时，必须使用产品进行润洗仪器的测试管路。由于颗粒仪内部管路在存放时会产生颗粒物。因此在实际生产测试时，会使用昂贵的光刻胶对测试管路进行润洗，通常需要润洗1-2小时左右，耗费产品2-5kg，这样就大大延长了生产时间，同时清洗成本大大增加。因此，需要开发一种光刻胶颗粒度测试清洗装置，能够快速、准确的测定光刻胶产品的颗粒度。

实用新型内容

本实用新型实施例提供一种光刻胶颗粒度测试装置，旨在解决现有光刻胶测试管路因为压力差而存在气泡且流量不稳定造成的测试数据不精准的问题。

本实用新型实施例是这样实现的，提供一种光刻胶颗粒度测试装置，包括：

高位槽，与光刻胶生产线连接用于存储待测光刻胶；

颗粒仪，用于测量待测光刻胶的颗粒度；

所述高位槽底部设有与所述光刻胶生产线管路连接的进料口；

所述高位槽的侧下方设有与颗粒仪进料管路连接的出料口；

所述颗粒仪的出口端还设有用于调节所述颗粒仪中待测光刻胶流量参数的流量计

更进一步地，所述高位槽的顶部还有用于输入氮气的进气口。

更进一步地，所述高位槽的侧上方设有溢流口，所述溢流口的位置高于所述出料口的位置。

更进一步地，所述溢流口经溢流管路连接有用于回收溢出待测光刻胶的储罐。

更进一步地，所述进气口连接有用于向所述高位槽内部输送氮气的进气装置。

更进一步地，所述流量计的出口端还设有用于回收经过测试待测光刻胶的去废液罐。

更进一步地，所述颗粒仪的进口端还设有用于清洗所述光刻胶颗粒度测试装置的清洗装置。