[实用新型]一种大口径立卧两用高真空管式炉有效
| 申请号: | 202023151240.1 | 申请日: | 2020-12-23 | 
| 公开(公告)号: | CN214276507U | 公开(公告)日: | 2021-09-24 | 
| 发明(设计)人: | 袁家巍;袁梦珂;孙小敏 | 申请(专利权)人: | 郑州科晶电炉有限公司 | 
| 主分类号: | F27B17/00 | 分类号: | F27B17/00 | 
| 代理公司: | 河南银隆律师事务所 41186 | 代理人: | 范志远 | 
| 地址: | 450000 河南省郑州市高*** | 国省代码: | 河南;41 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 口径 两用 真空管 | ||
本实用新型涉及一种大口径立卧两用高真空管式炉,包括炉体,还包括底座,所述炉体的一端转动设置于底座,所述炉体的一端上部设置有进出料口,炉体设置有进出料口的一端两侧设置有转轴、另一端两侧均转动设置有传动齿轮,所述传动齿轮由电机驱动转动,所述底座呈口字形,底座一端两侧竖直设置有支板、另一端设置有圆缺状齿圈,所述转轴转动套合于支板,所述齿圈下端与底座固定连接、上端与支板上端固定连接,齿圈内侧与传动齿轮相互啮合。本实用新型的目的在于为了解决或至少减轻大部分真空管式炉的炉管为水平放置,无法调节管式炉的倾斜角度的问题,提供一种大口径立卧两用高真空管式炉。
技术领域
本实用新型涉及加热设备技术领域,尤其涉及一种大口径立卧两用高真空管式炉。
背景技术
真空管式炉是物理气相沉积和化学气相沉积制备纳米材料最常用的设备之一,可适用于碳纳米管的研制、晶体硅基板镀膜、纳米ZnO的可控生长、陶瓷电容器(MLCC)的气氛烧结、金属材料的扩散焊等CVD工艺。
在真空管式炉实际工作过程中,基于提高材料的反应效率、进行合理位置调整等需要,可以在真空或通反应气体(包括流动气体或封闭气体)的同时,控制炉体倾斜一定的角度。例如使用NH3作为反应气体,反应过程中产生H2,则可以适当调整炉体的出气口一端处于较高的位置,使得H2从出气口尽快排出炉体,有利于提高设备的工作效率。目前,大部分真空管式炉的炉管为水平放置,无法调节管式炉的倾斜角度。少部分真空管式炉虽然具有调节功能,但大都存在调节不便的问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服现有技术中的不足,为了解决或至少减轻大部分真空管式炉的炉管为水平放置,无法调节管式炉的倾斜角度的问题,提供一种大口径立卧两用高真空管式炉。
本实用新型是通过以下技术方案实现的:
一种大口径立卧两用高真空管式炉,包括炉体,还包括底座,所述炉体的一端转动设置于底座;
所述炉体的一端上部设置有进出料口,炉体设置有进出料口的一端两侧设置有转轴、另一端两侧均转动设置有传动齿轮,所述传动齿轮由电机驱动转动;
所述底座呈口字形,底座一端两侧竖直设置有支板、另一端设置有圆缺状齿圈,所述转轴转动套合于支板,所述齿圈下端与底座固定连接、上端与支板上端固定连接,齿圈内侧与传动齿轮相互啮合。
为了进一步实现本实用新型,可优先选用以下技术方案:
优选的,所述齿圈的角度大于90°。
优选的,所述大口径立卧两用高真空管式炉还包括支撑组件,所述支撑组件位于底座内中部,支撑组件包括前支腿和中支腿,所述前支腿位于炉体与底座转动连接处,所述中支腿位于底座中部,前支腿和中支腿均为液压缸。
优选的,所述前支腿上端设置有前顶板,所述前顶板呈平板状,所述中支腿上端设置有中顶板,所述中顶板呈与炉体外壁相对应的圆弧状。
优选的,所述炉体为竖立状态时,所述中顶板与炉体侧壁贴合。
优选的,所述支撑组件还包括后支腿,所述后支腿位于齿圈与底座固定处,后支腿上端设置有后顶板,所述后顶板呈与炉体外壁相对应的圆弧状。
优选的,两个所述电机分别固定设置于炉体中部两侧,电机的转动轴固定套合有主动齿轮,所述主动齿轮与传动齿轮相互啮合。
通过上述技术方案,本实用新型的有益效果是:
本实用新型的炉体一端与底座转动连接、另一端设置有传动齿轮,底座两侧设置有与传动齿轮相啮合的齿圈,传动齿轮转动时,带动炉体沿齿圈传动角度,使炉体能处于立卧两种状态,且能在立卧两种状态之间的任意角度工作,调节方便,提高了适用性和工作效率。
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