[实用新型]一种测量设备有效

专利信息
申请号: 202023141556.2 申请日: 2020-12-22
公开(公告)号: CN213748183U 公开(公告)日: 2021-07-20
发明(设计)人: 陈宽;代徐密;胡艳菲;颜鑫康;胡朝泽;曾家亮;井长伟 申请(专利权)人: 浙江舜宇光学有限公司
主分类号: G01B5/02 分类号: G01B5/02
代理公司: 北京谨诚君睿知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11538 代理人: 延慧;武丽荣
地址: 315400 浙江省宁*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 测量 设备
【说明书】:

实用新型涉及一种测量设备,包括大理石平台(1)、固定在所述大理石平台(1)上的固定支架(2)、安装在所述固定支架(2)上的高度计(3),还包括水平调节装置(4)、支承在所述水平调节装置(4)上的倾斜调节装置(5)以及固定在所述倾斜调节装置(5)上的治具平板(6);所述治具平板(6)位于所述高度计(3)的下方,所述倾斜调节装置(5)用于调节所述治具平板(6)与所述高度计(3)相垂直。本实用新型涉及的测量设备,测试准确度高。

技术领域

本实用新型涉及测量技术领域,尤其涉及一种测量镜头的测量设备。

背景技术

目前使用的镜头高度测量设备主要包括大理石平台、设置在大理石平台固定支架以及安装在固定支架上的高度计。在对于镜头的测量中,将镜头直接放置在大理石平台上进行测量。例如上述设备对镜头测量过程中存在以下问题:1、在测试镜头机械总厂时因为测试位置不确定重复性测试差异5μm左右,造成数据测试不准确。2、大理石平台面使用时间较长,平台面不同位置测试平面度较差,样品放置位置不同会影响测试结果。3、高度计测针与平面存在一定的角度偏差,造成镜头测量结果误差。

实用新型内容

本实用新型的目的在于解决上述问题,提供一种测试准确度高的测量设备。

为实现上述目的,本实用新型提供一种测量设备,包括大理石平台、固定在所述大理石平台上的固定支架、安装在所述固定支架上的高度计,其特征在于,还包括水平调节装置、支承在所述水平调节装置上的倾斜调节装置以及固定在所述倾斜调节装置上的治具平板;

所述治具平板位于所述高度计的下方,所述倾斜调节装置用于调节所述治具平板与所述高度计相垂直。

根据本实用新型的一个方面,所述治具平板的平面度优于所述大理石平台的平面度。

根据本实用新型的一个方面,所述治具平板的平面度≤1.5μm。

根据本实用新型的一个方面,所述高度计与所述固定支架可拆卸连接。

根据本实用新型的一个方面,所述水平调节装置包括:底座、支承在底座上的X向调节滑台和Y向调节滑台以及分别与所述X向调节滑台和Y向调节滑台相连接的X向调节驱动和Y向调节驱动。

根据本实用新型的一个方面,所述倾斜调节装置包括:支撑部和调节齿轮,调节齿轮用于调节所述支撑部的倾斜度。

本实用新型的测量设备,水平调节装置固定在大理石平台上,可以实现X、Y方向的调节。倾斜调节装置支承在水平调节装置上,在倾斜调节装置之上固定有治具平板用于放置待测试镜头。本实用新型的测量设备,治具平板位于高度计的下方,倾斜调节装置用于调节治具平板与高度计相垂直,从而确保测试的准确性。

本实用新型的测量设备,治具平板的平面度优于大理石平台的平面度,如此设置,将待测镜头放置于治具平板上进行测试,测试的准确度更高。

本实用新型的测量设备,由于设置有水平调节装置,可以实现X、Y方向的位置调节,而由于倾斜调节装置固定在水平调节装置上,治具平板固定在倾斜调节装置上,进而水平调节装置在移动时能够实现治具平板的同步移动,相比于现有技术中将镜头放置在大理石平台上进行测试而言,本实用新型的测量设备,将镜头放置在治具平板上,可以避免样品摆放位置不同对测试结果造成的影响。

附图说明

图1示意性表示根据本实用新型测量设备的主视图;

图2示意性表示图1的右视图;

图3示意性表示图1的俯视图。

图4示意性表示根据本实用新型一种实施方式的水平调节装置的结构图;

图5示意性表示根据本实用新型一种实施方式的倾斜调节装置的结构图。

具体实施方式

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