[实用新型]一种便于清洗的反应釜

权利要求书

1.一种便于清洗的反应釜，其特征在于，所述反应釜包括釜体(1)、清洁组件(2)和限位件(3)；

所述釜体(1)的顶部和底部分别具有进料口(11)和出料口(12)，所述进料口(11)和所述出料口(12)分别与所述釜体(1)的反应腔(13)连通；

所述清洁组件(2)包括双向电机(21)、转轴(22)、圆盘(23)和清洁刷(24)，所述双向电机(21)位于所述釜体(1)的顶部上，所述双向电机(21)的输入轴与所述转轴(22)的第一端传动连接，所述转轴(22)的第二端同轴插装在所述圆盘(23)中，且所述转轴(22)和所述圆盘(23)螺纹配合，所述清洁刷(24)围设在所述圆盘(23)的外边缘，且所述清洁刷(24)与所述釜体(1)的内壁相接触，所述转轴(22)、所述圆盘(23)和所述清洁刷(24)均位于所述反应腔(13)中；

所述限位件(3)被配置为限制所述圆盘(23)转动。

2.根据权利要求1所述的便于清洗的反应釜，其特征在于，所述限位件(3)为限位杆(31)，所述限位杆(31)与所述转轴(22)平行且间隔布置，且所述限位杆(31)贯穿所述圆盘(23)，所述限位杆(31)的第一端固定插装在所述釜体(1)的底部，所述限位杆(31)的第二端固定插装在所述釜体(1)的顶部。

3.根据权利要求2所述的便于清洗的反应釜，其特征在于，所述圆盘(23)中插装有衬套(231)，所述限位杆(31)同轴插装在所述衬套(231)中。

4.根据权利要求1所述的便于清洗的反应釜，其特征在于，所述转轴(22)的底部同轴可拆卸套设有限位环(221)。

5.根据权利要求4所述的便于清洗的反应釜，其特征在于，所述限位环(221)的外壁上具有多个叶片(2211)，多个所述叶片(2211)沿所述限位环(221)周向均匀分布。

6.根据权利要求5所述的便于清洗的反应釜，其特征在于，所述转轴(22)的外壁和所述限位环(221)的内壁螺纹配合。

7.根据权利要求1-6任意一项所述的便于清洗的反应釜，其特征在于，所述釜体(1)的顶部和底部为向外凸起的弧形结构件。

8.根据权利要求1-6任意一项所述的便于清洗的反应釜，其特征在于，所述反应釜为金属结构件。