[实用新型]一种气体供给稳定的半导体生产用气相外延炉

权利要求书

1.一种气体供给稳定的半导体生产用气相外延炉，包括炉体(1)，其特征在于：所述炉体(1)的底部固定连接有下固定圈(2)，所述下固定圈(2)的一侧固定连接有下盖板(3)，所述下盖板(3)的底部固定连接有密封盖(4)，所述密封盖(4)的一侧固定连接有位于炉体(1)顶部的上固定圈(5)，所述上固定圈(5)的顶部固定连接上盖板(6)，所述上盖板(6)的一侧固定连接有进气管(7)，所述进气管(7)的一侧固定连接有位于上盖板(6)的顶部的密封圈(8)，所述密封圈(8)的内侧活动套接有进料管(9)，所述进料管(9)的侧部固定连接有卡接块(10)，所述卡接块(10)的一侧固定连接有位于进料管(9)一端的固定内圈(11)，所述固定内圈(11)的一侧固定连接有盖板(12)，所述盖板(12)的内侧固定连接有液体槽(13)，所述液体槽(13)的侧部开设有出料口(14)，所述出料口(14)的一侧固定连接有位于液体槽(13)侧部的支撑杆(15)，所述支撑杆(15)的一端固定连接有固定圈(16)，所述固定圈(16)的底部活动套接有放置圈(17)，所述放置圈(17)的顶部固定连接有卡条(18)，所述卡条(18)的一侧设有位于放置圈(17)底端的沉淀槽(19)。

2.根据权利要求1所述的一种气体供给稳定的半导体生产用气相外延炉，其特征在于：所述进料管(9)的一端的侧部和液体槽(13)顶部的侧部设有螺旋纹，所述固定内圈(11)和盖板(12)均设有螺旋纹6，所述进料管(9)的一端的侧部设有的螺旋纹固定连接在固定内圈(11)的内侧，所述盖板(12)的内侧设有的螺旋纹固定连接在液体槽(13)的顶部的侧部。

3.根据权利要求1所述的一种气体供给稳定的半导体生产用气相外延炉，其特征在于：所述进料管(9)一端的侧部的相对应设有两个卡接块(10)，所述密封圈(8)的侧部开设有凹槽，且卡接块(10)的侧部可活动卡接在凹槽的内侧。

4.根据权利要求1所述的一种气体供给稳定的半导体生产用气相外延炉，其特征在于：所述液体槽(13)侧部的底端的四个相对应位置均固定连接在支撑杆(15)的一端，所述支撑杆(15)的另一端固定连接在固定圈(16)顶部的四个方向，四个支撑杆(15)的每两个中间均设有出料口(14)，所述出料口(14)的内侧固定连接有防护网。

5.根据权利要求1所述的一种气体供给稳定的半导体生产用气相外延炉，其特征在于：所述固定圈(16)的底部的内侧开设有凹槽，所述放置圈(17)的顶部固定连接的卡条(18)的侧部可活动套接在固定圈(16)的底部开设的凹槽内侧，且放置圈(17)的外侧焊接在炉体(1)的内侧。

6.根据权利要求1所述的一种气体供给稳定的半导体生产用气相外延炉，其特征在于：所述进气管(7)的一端固定连接在上盖板(6)的侧部，且进气管(7)与炉体(1)内部相连通。