[实用新型]一种带有安全监测模块的全氢罩式退火炉有效
| 申请号: | 202023058369.8 | 申请日: | 2020-12-18 |
| 公开(公告)号: | CN214032758U | 公开(公告)日: | 2021-08-24 |
| 发明(设计)人: | 李铮辉;朱素琴;张平;臧震;范西子 | 申请(专利权)人: | 靖江嘉仕德炉业有限公司 |
| 主分类号: | C30B33/02 | 分类号: | C30B33/02;H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京挺立专利事务所(普通合伙) 11265 | 代理人: | 石磊 |
| 地址: | 214526 江苏省泰州市靖江市马*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 带有 安全 监测 模块 全氢罩式 退火炉 | ||
本实用新型涉及全氢罩式退火炉技术领域,具体为一种带有安全监测模块的全氢罩式退火炉。当退火腔内的气压过大时,退火腔内部气体将顶板向上推动,顶板推动顶柱移动,顶柱将顶杆向外侧推动,顶杆将气球扎破,气球内的红色颜料落到颜料槽内,通过红色颜料的露出向施工人员反应内部压力过大的情况,使得生产人员能够了解退火炉内部的压力过大,需要生产人员对退火炉进行泄压,放置产生气压继续增加,造成爆炸,形成安全事故。玻璃罩可以单独取下,对内部进行清洗,在重新放入气球,使得实用新型可以多次重复使用。
技术领域
本实用新型涉及全氢罩式退火炉技术领域,具体为一种带有安全监测模块的全氢罩式退火炉。
背景技术
退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺,其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理是针对不同的效果而设计的。可以加热晶片以激活掺杂剂,将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面,使致密沉积的薄膜,改变生长的薄膜的状态,修复注入的损伤,移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底。退火炉可以集成到其他炉子处理步骤中,例如氧化,或者可以自己处理。退火炉是由专门为加热半导体晶片而设计的设备完成的。退火炉是节能型周期式作业炉,超节能结构,采用纤维结构。
现有的全氢罩式退火炉在进行退火工作时,内部的气压可能会积累过大,过大的气压会造成退火炉爆炸,造成安全事故。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种带有安全监测模块的全氢罩式退火炉,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种带有安全监测模块的全氢罩式退火炉,包括炉体,所述炉体内部设置有退火腔,所述炉体上端设置有罩体,罩体内部设置有滑槽,滑槽内部设置有滑块,滑块外侧设置有滑轮,所述滑块内部固定连接顶板,顶板上端外侧固定连接检压弹簧,所述顶板中间上端固定连接顶柱,所述罩体上端中间设置有第一移槽,所述罩体上端固定连接有固定块,固定块底部中间设置有第二移槽,所述固定块内部设置有传动结构,所述固定块上端中间设置有限制槽,所述罩体上端中间设置有玻璃罩,玻璃罩内壁上端设置有气球,所述玻璃罩内壁下端设置有颜料槽,所述玻璃罩中间下端固定连接固定柱。
优选的,所述滑槽设置为T型槽,滑块以顶板为中心左右对称设置有两块,每块滑块外侧均设置有两根滑轮,顶板设置为圆板,检压弹簧以顶柱为中心左右对称设置有两组,顶柱上端延伸至第一移槽中间。
优选的,所述第二移槽与第一移槽对齐,第二移槽和第一移槽大小相同,传动结构以第二移槽为中心左右对称设置有两组。
优选的,所述传动结构包括活动腔、归位弹簧、移块、移杆、连板、顶杆,活动腔位于固定块内部,活动腔内部设置有归位弹簧,归位弹簧外侧固定连接固定块,归位弹簧内侧固定连接移块,移块内侧固定连接移杆,移杆内侧贯穿固定块并延伸至第二移槽内,移杆内侧端设置为半圆,移杆外侧贯穿固定块并延伸至外侧,移杆外侧固定连接连板内侧底部,连板外侧顶部固定连接顶杆,顶杆外侧端设置为尖端,归位弹簧以移杆为中心上下对称设置有两组,移块对应归位弹簧设置有两块。
优选的,所述固定柱位于限制槽内部,气球内部装满红色颜料,气球以固定柱为中心左右对称设置有两个,颜料槽位于气球下端,颜料槽对应气球设置有两个。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
1.当退火腔内的气压过大时,退火腔内部气体将顶板向上推动,顶板推动顶柱移动,顶柱将顶杆向外侧推动,顶杆将气球扎破,气球内的红色颜料落到颜料槽内,通过红色颜料的露出向施工人员反应内部压力过大的情况,使得生产人员能够了解退火炉内部的压力过大,需要生产人员对退火炉进行泄压,放置产生气压继续增加,造成爆炸,形成安全事故。
2.玻璃罩可以单独取下,对内部进行清洗,在重新放入气球,使得实用新型可以多次重复使用。
附图说明
图1为本实用新型立体图;
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