[实用新型]一种真空烤瓷炉

权利要求书

1.一种真空烤瓷炉，包括底座(1)和升降台(2)，其特征在于：所述底座(1)上左右两侧设有伸缩气缸(3)，所述伸缩气缸(3)通过伸缩杆(4)连接升降台(2)，所述底座(1)与所述升降台(2)之间还设有支撑板(5)，所述底座(1)上表面的中心位置贯穿设有旋转轴(16)，所述旋转轴(16)的顶端固定连接托盘(13)，所述旋转轴(16)的另一端连接有旋转电机(12)，所述旋转电机(12)位于底座(1)内，所述托盘(13)的上方设有烤瓷盘(14)，所述升降台(2)内设有凹弧形的加热炉(6)，所述加热炉(6)的凹弧形内壁上设有圆柱形的固定罩(8)，所述固定罩(8)的底面与升降台(2)持平，所述固定罩(8)的底面设有圆环形的环形板(9)，所述环形板(9)上固定有上密封圈(10)，所述固定罩(8)与所述加热炉(6)的接触面上设有圆弧形的滑轨(7)，且所述固定罩(8)与所述滑轨(7)滑动连接。

2.根据权利要求1所述的一种真空烤瓷炉，其特征在于：所述固定罩(8)位于所述托盘(13)的正上方且所述固定罩(8)的直径与所述托盘(13)的直径相同。

3.根据权利要求1所述的一种真空烤瓷炉，其特征在于：所述托盘(13)上固定有下密封圈(11)，所述下密封圈(11)与所述上密封圈(10)相抵触。

4.根据权利要求1所述的一种真空烤瓷炉，其特征在于：所述固定罩(8)的高度大于所述烤瓷盘(14)距离托盘(13)的高度且所述烤瓷盘(14)与所述环形板(9)同轴并相契合。

5.根据权利要求1所述的一种真空烤瓷炉，其特征在于：所述底座(1)的前表面上还设有控制台(15)。