[实用新型]一种可改善ITO膜的达因值的收卷装置

说明书

本实用新型公开了一种可改善ITO膜的达因值的收卷装置，包括收卷组件，所述收卷组件的进料口一侧设有离子源，ITO膜在经过离子源处理后由收卷组件收卷，位于所述离子源的进料口或出料口的一侧设有橡胶辊，所述橡胶辊可转动连接在第二支架上且与ITO膜相接触，所述橡胶辊之下设有粘尘辊，所述粘尘辊可转动连接在第三支架上且外壁与橡胶辊的外壁相接触，所述粘尘辊的中轴线与橡胶辊的中轴线相平行，所述离子源为阳极层离子源、霍尔离子源或者考夫曼离子源，能够适量提高ITO面的初始达因值，并在覆PP或PE保护膜后降低和减缓ITO面达因值的衰减程度。

【技术领域】

本实用新型涉及ITO膜的技术领域，特别是一种可改善ITO膜的达因值的收卷装置的技术领域。

【背景技术】

ITO(掺锡氧化铟,IndiumTinOxide)膜是一种n型半导体材料，具有高导电率、高可见光透过率、高机械硬度和良好的化学稳定性。

如图1所示，现有的ITO膜的结构主要包括从上至下依次设置的PP或PE保护膜a、ITO镀层b、PET主膜c以及PET高温保护膜d。PP或PE保护膜a可对ITO镀层b进行保护。如若不覆PP或PE保护膜a，则ITO镀层b会在分切、包装或运输等过程中产生划伤和脏污等不良现象，因此覆PP或PE保护膜a是必要的。

在利用ITO膜制备TP(触摸屏,touch panel)的工序中，需要在ITO膜的ITO面上印银浆。因此，要求银浆和ITO面间有着较高的附着力。其间附着力高低的一般考量参数为ITO膜表面张力，即ITO面的达因值。ITO本身物质特性表现为高达因值(40左右)。但是，若在ITO膜上覆PP或PE保护膜a，会导致PP或PE保护膜a上的胶类小分子吸附在ITO面上，从而导致ITO膜的ITO面的达因值明显下降，且时间越长，达因值越低。试验表明，覆PP或PE保护膜a20～30天后，ITO膜的ITO面的达因值会低于32，这样印银浆后，发生银浆脱落的可能性较大。

【实用新型内容】

本实用新型的目的就是解决现有技术中的问题，提出一种可改善ITO膜的达因值的收卷装置，能够适量提高ITO面的初始达因值，并在覆PP或PE保护膜后降低和减缓ITO面达因值的衰减程度。

为实现上述目的，本实用新型提出了一种可改善ITO膜的达因值的收卷装置，包括收卷组件，所述收卷组件的进料口一侧设有离子源，ITO膜在经过离子源处理后由收卷组件收卷。

作为优选，所述收卷组件包括收卷辊、第一支架和电机，所述收卷辊可转动连接在第一支架上并由电机驱动转动。

作为优选，位于所述离子源的进料口或出料口的一侧设有橡胶辊，所述橡胶辊可转动连接在第二支架上且与ITO膜相接触。

作为优选，所述橡胶辊之下设有粘尘辊，所述粘尘辊可转动连接在第三支架上且外壁与橡胶辊的外壁相接触，所述粘尘辊的中轴线与橡胶辊的中轴线相平行。

作为优选，还包括钢棍，所述钢棍可转动连接在第四支架上且与ITO膜相接触。

作为优选，所述离子源为阳极层离子源、霍尔离子源或者考夫曼离子源。

作为优选，所述离子源安装在镀膜机上。

本实用新型的有益效果：本实用新型通过在镀膜机的收卷组件之前增设离子源，适量提高ITO面的初始达因值，并在覆PP或PE保护膜后降低和减缓ITO面达因值的衰减程度，从而解决ITO膜覆PP或PE保护膜的矛盾；通过增设粘尘辊，不断清洁橡胶辊，从而有效避免镀膜连续作业中的污染累积问题。

本实用新型的特征及优点将通过实施例结合附图进行详细说明。

【附图说明】

图1是现有的ITO膜的结构示意图；

图2是本实用新型一种可改善ITO膜的达因值的收卷装置的主视图。