[实用新型]靶材磁控镀膜支架

权利要求书

1.靶材磁控镀膜支架，包括离子溅射仪本体(1)、镀膜支板(2)、靶材本体(3)和滑动件(4)，其特征在于：所述镀膜支板(2)固定连接在离子溅射仪本体(1)内部，所述镀膜支板(2)两条对角线分别设有四条滑轨(5)，所述镀膜支板(2)顶部设有多个凹孔(6)，所述四条滑轨(5)顶部设有四个挡杆(7)，所述挡杆(7)两端滑动连接有两个卡接件(8)；

所述卡接件(8)包括拉杆(13)、挡块(14)、顶板(15)、支撑弹簧(16)，所述拉杆(13)滑动贯穿挡板，所述镀膜支板(2)内部设有卡接槽(17)，所述拉杆(13)滑动贯穿凹孔(6)，所述拉杆(13)顶部固定连接有把手(18)，所述拉杆(13)底部设有挡块(14)，且挡块(14)与卡接槽(17)卡接，所述镀膜支板(2)的底部设置有支撑槽(19)，所述顶板(15)与挡块(14)相接触，所述支撑弹簧(16)和顶板(15)滑动连接在支撑槽(19)内部；

所述镀膜支板(2)的内部设置有安装槽(12)，所述滑动件(4)包括固定板(9)、连接板(10)和伸缩弹簧(11)，所述固定板(9)固定连接在安装槽(12)内部，所述伸缩弹簧(11)一端与固定板(9)的顶端固定连接，且所述伸缩弹簧(11)的另一端与连接板(10)的侧壁固定连接，所述滑动件(4)的一端滑动连接在镀膜支板(2)内部，且所述滑动件(4)输出端与挡杆(7)的侧壁固定连接。

2.根据权利要求1所述的靶材磁控镀膜支架，其特征在于：所述伸缩弹簧(11)和连接板(10)滑动连接在安装槽(12)的内部，且所述连接板(10)滑动穿过滑轨(5)与挡杆(7)固定连接。

3.根据权利要求1所述的靶材磁控镀膜支架，其特征在于：所述挡杆(7)的横截面为L形状。

4.根据权利要求1所述的靶材磁控镀膜支架，其特征在于：所述支撑弹簧(16)的一端固定连接在支撑槽(19)底部，且所述支撑弹簧(16)的另一端与顶板(15)固定连接。

5.根据权利要求1所述的靶材磁控镀膜支架，其特征在于：所述把手(18)外侧设有防滑纹。

6.根据权利要求1所述的靶材磁控镀膜支架，其特征在于：所述两个卡接件(8)滑动贯穿凹孔(6)与镀膜支板(2)卡接。

7.根据权利要求1所述的靶材磁控镀膜支架，其特征在于：所述滑动件(4)的数量有四个。

8.根据权利要求1所述的靶材磁控镀膜支架，其特征在于：所述靶材本体(3)滑动连接在四个挡杆(7)内侧壁。