[实用新型]用于晶闸管生产的连续式真空镀膜机

说明书

本实用新型公开了一种用于晶闸管生产的连续式真空镀膜机，涉及晶闸管生产相关领域，为解决现有技术中的无法解决镀膜机在镀膜时工作效率低的问题。所述固定座的上端设置有转动马达，所述转动马达与固定座固定连接，所述转动马达上设置有转轴，所述转轴的上端设置有置物板，所述置物板与转轴固定连接，所述置物板的上端设置有第一卡环，所述第一卡环的上端设置有第二卡环，所述第一卡环与第二卡环设置为贴合，所述第二卡环的上端设置有镀膜机，所述镀膜机上设置有位置接收器，所述置物板上设置有位置传感器，所述位置传感器与位置接收器电性连接。

技术领域

本实用新型涉及晶闸管生产相关领域，具体为一种用于晶闸管生产的连续式真空镀膜机。

背景技术

晶闸管是晶体闸流管的简称，又可称做可控硅整流器，以前被简称为可控硅。1957年美国通用电器公司开发出世界上第一晶闸管产品，并于1958年使其商业化；晶闸管是PNPN四层半导体结构，它有三个极：阳极，阴极和门极。晶闸管工作条件为：加正向电压且门极有触发电流；其派生器件有：快速晶闸管，双向晶闸管，逆导晶闸管，光控晶闸管等。它是一种大功率开关型半导体器件，在电路中用文字符号为“V”、“VT”表示。晶闸管具有硅整流器件的特性，能在高电压、大电流条件下工作，且其工作过程可以控制、被广泛应用于可控整流、交流调压、无触点电子开关、逆变及变频等电子电路中，而现有的晶闸管在进行生产时，常常需要使用真空镀膜机来对其进行镀膜处理。

而现有的真空镀膜机在进行使用时，多依靠蒸发体自然进行散射，且一次只能对一个工件进行镀膜，其工作效率低，从而会极大的影响到使用者对其进行镀膜操作；因此市场急需研制一种用于晶闸管生产的连续式真空镀膜机来帮助人们解决现有的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于晶闸管生产的连续式真空镀膜机，以解决上述背景技术中提出的无法解决镀膜机在镀膜时工作效率低的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种用于晶闸管生产的连续式真空镀膜机，包括固定座和传送机构，所述传送机构上安装有多个固定座，所述固定座的上端设置有转动马达，所述转动马达上设置有转轴，所述转轴的上端设置有置物板，所述置物板与转轴固定连接，所述置物板的上端设置有第一卡环，所述第一卡环的上端设置有第二卡环，所述第二卡环的上端设置有镀膜机本体，所述镀膜机本体上设置有位置接收器，所述置物板上设置有位置传感器，所述镀膜机本体的上端设置有液压推杆，所述液压推杆与镀膜机本体固定连接，所述镀膜机本体的一侧设置有蒸发器，所述蒸发器上设置有进料管，所述蒸发器与镀膜机本体通过气管连接，所述进料管上设置有固定外壳，所述固定外壳的下端设置有装置外壳。

优选的，所述固定外壳设置为矩形状。

优选的，所述转动马达的一侧设置有外罩，所述外罩与固定座固定连接，所述外罩上设置有轴承，所述轴承与外罩固定连接。

优选的，所述外罩的一侧设置有密封板，所述密封板设置有四个，所述密封板上设置有翻板阀，所述翻板阀与密封板固定连接。

优选的，所述翻板阀的一侧设置有加热器，所述加热器与装置外壳固定连接，所述加热器的一侧设置有压板，所述压板的上端设置有电动推杆，所述电动推杆与压板固定连接；所述传送机构包括传动带，所述固定座安装在传送带上，所述传动带的内部设置有主动辊，所述主动辊的前端设置有驱动电机，所述驱动电机与主动辊通过联轴器连接，所述主动辊的一侧设置有从动辊，所述传动带紧贴主动辊与从动辊，所述从动辊的上端设置有吹风机，所述吹风机与装置外壳固定连接，所述驱动电机的下端设置有固定板，所述固定板与装置外壳固定连接。

优选的，所述装置外壳的下端设置有装置底板，所述装置底板设置为矩形板状，所述装置底板与装置外壳固定连接，所述装置底板下端的一侧设置有支撑腿，所述支撑腿设置有四个，四个所述支撑腿设置在装置底板底端面的矩形四个端角处。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：