[实用新型]研磨垫及具有其的研磨装置

权利要求书

1.一种研磨垫，其特征在于，所述研磨垫具有相对的非工作面和工作面(10)，所述工作面(10)具有旋转中心且工作时沿所述旋转中心周向旋转，所述工作面(10)具有至少一个第一区域(110)，在由所述旋转中心指向所述工作面(10)的边缘的方向上，所述第一区域(110)的第一长度由L₁递增至L₂并由所述L₂递减至L₃，所述第一长度为所述第一区域(110)沿旋转方向的长度，所述工作面(10)中除所述第一区域(110)之外的区域为第二区域(120)，位于所述第一区域(110)中的所述工作面(10)与所述非工作面之间的最大垂直距离为H₁，位于所述第二区域(120)中的所述工作面(10)与所述非工作面之间的最大垂直距离为H₂，H₁＜H₂。

2.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述第一区域(110)的几何重心距所述旋转中心的距离小于所述几何重心距所述工作面(10)边缘的最小距离。

3.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述第一区域(110)沿所述旋转方向的最大长度为a，所述第一区域(110)沿与所述旋转方向垂直的方向的最大长度为b，b＞a。

4.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，

所述第一区域(110)由所述旋转中心趋向所述工作面(10)的边缘延伸且未与所述工作面(10)的边缘接触；或

所述第一区域(110)由所述工作面(10)的边缘趋向所述旋转中心延伸且未与所述旋转中心接触；或

所述第一区域(110)由所述旋转中心延伸至所述工作面(10)的边缘。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的研磨垫，其特征在于，

所述工作面(10)包括平整的基面(101)和凸出在所述基面(101)上的多个凸起面(102)，所述凸起面(102)均位于所述第二区域(120)中；或

所述工作面(10)包括平整的基面(101)和凸出在所述基面(101)上的多个凸起面(102)，所述第一区域(110)和所述第二区域(120)中均形成有凸起部，所述凸起面(102)为各所述凸起部远离所述非工作面一侧的表面，且所述第一区域(110)中的所述凸起部的高度小于所述第二区域(120)中的所述凸起部的高度。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的研磨垫，其特征在于，所述第一区域(110)为多个，各所述第一区域(110)沿所述旋转方向均匀分布。

7.根据权利要求6所述的研磨垫，其特征在于，所述第一区域(110)为偶数个，且两两所述第一区域(110)呈中心对称。

8.根据权利要求1至4中任一项所述的研磨垫，其特征在于，

所述第一区域(110)为三角形；或

所述第一区域(110)为梯形；或

所述第一区域(110)为由直线段和曲线段围成的图形；或

所述第一区域(110)为由第一曲线段和第二曲线段围成的图形。

9.根据权利要求1至4中任一项所述的研磨垫，其特征在于，所述第一区域(110)的面积为所述工作面(10)的面积的5％～10％。

10.根据权利要求1至4中任一项所述的研磨垫，其特征在于，所述H₁与所述H₂的高度差为1mm～3mm。

11.一种研磨装置，包括工作台以及设置于所述工作台上的研磨垫，所述工作台用于放置晶圆，所述研磨垫用于通过自转对所述晶圆远离所述工作台一侧的表面进行研磨，其特征在于，所述研磨垫为权利要求1至10中任一项所述的研磨垫。

12.根据权利要求11所述的研磨装置，其特征在于，所述研磨装置还包括研磨液喷射装置，所述研磨液喷射装置的出口朝向所述工作台设置。