[实用新型]一种负硬矿井水零排放处理系统有效
| 申请号: | 202022895732.5 | 申请日: | 2020-12-04 |
| 公开(公告)号: | CN214115233U | 公开(公告)日: | 2021-09-03 |
| 发明(设计)人: | 陆梦楠;张玉魁;赵焰;郭旭涛;李向南;樊陈子;盛飞;徐志清;曲增杰 | 申请(专利权)人: | 北京朗新明环保科技有限公司 |
| 主分类号: | C02F9/10 | 分类号: | C02F9/10;C01D3/04;C01D3/14;C01D5/00;C01D5/16;C02F101/10;C02F101/16 |
| 代理公司: | 北京巨弘知识产权代理事务所(普通合伙) 11673 | 代理人: | 王辉 |
| 地址: | 100039 北京市海淀区西*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 矿井 排放 处理 系统 | ||
1.一种负硬矿井水零排放处理系统,其特征在于:包括依次连接的原水调节池(1)、一级V型滤池(2)、一级超滤装置(3)、一级反渗透装置(4)、一级脱碳器(5)、第一高密度沉淀池(6)、二级超滤装置(7)、树脂软化装置(8)、二级脱碳器(9)、二级反渗透装置(10)、一级纳滤装置(11)、纳滤产水箱(12)、二级纳滤装置(13)、三级反渗透装置(14)、第一MVR蒸发器(15)、第一MVR结晶器(16)、第一纯盐干燥器(17)、一价离子终端母液罐(18),与所述一级纳滤装置(11)浓水出口依次连接的纳滤浓水水箱(19)、第二MVR蒸发器(20)、溶硝罐(21)、第二MVR结晶器(22)、冷冻结晶器(23)、第二纯盐干燥器(24),与所述第二MVR结晶器(22)相连的第三纯盐干燥器(25)和二价离子终端母液罐(26),所述纳滤产水箱(12)与所述一级纳滤装置(11)产水出口相连;
所述原水调节池(1)、所述一级V型滤池(2)和所述一级超滤装置(3)用于对负硬矿井水进行调节过滤,所述一级反渗透装置(4)用于对所述负硬矿井水进行一级浓缩,所述一级脱碳器(5)用于通过加入硫酸使所述负硬矿井水中的HCO3-转化为CO2降低负硬度,所述第一高密度沉淀池(6)用于去除所述负硬矿井水中的钙离子,所述二级超滤装置(7)用于过滤所述负硬矿井水中的杂质,所述树脂软化装置(8)用于去除所述负硬矿井水中的钙镁离子,所述二级脱碳器(9)用于进一步去除所述负硬矿井水中的HCO3-,所述二级反渗透装置(10)用于对所述负硬矿井水中进行二级浓缩,所述一级纳滤装置(11)用于对所述负硬矿井水中进行一价离子和二价离子的分离并得到一级纳滤装置产水和一级纳滤装置浓水,所述纳滤产水箱(12)用于存储所述一级纳滤装置产水,所述二级纳滤装置(13)用于对所述一级纳滤装置产水进行一价离子和二价离子的分离并得到二级纳滤产水和二级纳滤浓水,所述三级反渗透装置(14)用于浓缩所述二级纳滤产水,所述第一MVR蒸发器(15)用于蒸发浓缩所述二级纳滤产水,所述第一MVR结晶器(16)用于将所述二级纳滤产水蒸发结晶得到一价离子结晶和一价离子母液,所述第一纯盐干燥器(17)用于对所述一价离子结晶进行干燥后得到一价离子结晶成品,所述一价离子终端母液罐(18)用于存留一价离子母液,所述纳滤浓水水箱(19)用于存储所述一级纳滤装置浓水,所述第二MVR蒸发器(20)用于对一级纳滤装置浓水蒸发浓缩,所述溶硝罐(21)用于使所述一级纳滤装置浓水与所述溶硝罐(21)中溶解的芒硝产生反应后得到二价离子溶液,所述第二MVR结晶器(22)用于蒸发结晶所述二价离子溶液得到二价离子结晶和混盐母液,所述冷冻结晶器(23)用于对所述混盐母液进行冷冻结晶得到混盐结晶和二价离子终端母液,所述第二纯盐干燥器(24)用于干燥所述二价离子结晶得到二价离子结晶成品,所述第三纯盐干燥器(25)用于干燥所述混盐结晶得到干燥的混盐结晶,所述二价离子终端母液罐(26)用于存留所述二价离子终端母液。
2.根据权利要求1所述的一种负硬矿井水零排放处理系统,其特征在于:所述第三纯盐干燥器(25)出口与所述一级纳滤装置(11)的进水口相连。
3.根据权利要求1所述的一种负硬矿井水零排放处理系统,其特征在于:所述二级反渗透装置(10)和所述一级纳滤装置(11)之间还依次设置有第一保安过滤器(27)和氨氮反应池(28)。
4.根据权利要求3所述的一种负硬矿井水零排放处理系统,其特征在于:所述氨氮反应池(28)和所述一级纳滤装置(11)之间还依次设置有第二高密度沉淀池(29)、臭氧反应池(30)、活性炭过滤器(31)、三级超滤装置(32)和第二保安过滤器(33)。
5.根据权利要求1所述的一种负硬矿井水零排放处理系统,其特征在于:还包括除盐水箱、石灰装置、FeCl3装置、PAM装置、MgO装置、纯碱装置、H2SO4装置、HCl装置、NaOH装置、阻垢剂装置和还原剂装置。
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