[实用新型]一种间热式镧系等离子发生装置

说明书

本实用新型涉及等离子发生设备技术领域，且公开了一种间热式镧系等离子发生装置，包括底座，所述底座的上表面固定连接有连接块，所述连接块的上表面开设有固定槽，所述固定槽内壁的正面和背面均开设有卡接槽，所述固定槽的内部活动插接有固定块。该间热式镧系等离子发生装置，通过扭块对矩形杆进行控制，方便使其能够对挡板和齿板进行带动，达到调节齿板上下移动的作用，起到改变插入块高度的效果，方便对固定块的高度进行一定程度的调整，达到改变电磁环高度的作用，保证等离子发生装置的使用效果，利用固定杆和插入块的活动插接及限位作用，一定程度上保证固定块上下移动稳定性的作用。

技术领域

本实用新型涉及等离子发生设备技术领域，具体为一种间热式镧系等离子发生装置。

背景技术

离子布植是一个物理程序，其可以选择性地将布植材料的离子以特定的条件布植到底材上的特定区域，主要是用于将化学活跃材料物掺杂，引入至例如通常是硅的半导体材料的工作件内。镧系元素材料的布植尚为新发展的领域，但大部分镧系元素材料在自然界中是以化合物的形式存在，例如室温下的金属氧化物。在无法提供气体状态材料的状况下时，镧系元素化合物会先于一邻近一电弧室的蒸发器进行气化的动作，以产生镧系元素化合物的气体，然后再自蒸发器传送蒸发后的材料至电弧室来产生电浆，在利用发生装置对其进行等离子发散。

在等离子发生装置使用时，一般电磁环在发生装置中处于固定状态，较多的不能进行电磁环的调节，对等离子发生装置的使用造成影响。

实用新型内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种间热式镧系等离子发生装置，解决了电磁环不便调节的问题。

(二)技术方案

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种间热式镧系等离子发生装置，包括底座，所述底座的上表面固定连接有连接块，所述连接块的上表面开设有固定槽，所述固定槽内壁的正面和背面均开设有卡接槽，所述固定槽的内部活动插接有固定块，所述固定块的正面和背面均固定连接有卡接块，所述卡接块的表面位于卡接槽的内部，所述固定块两侧外壁的底部均开设有插入槽，所述固定槽内壁的两侧均开设有活动槽，所述连接块两侧的内部开设有转动槽，所述转动槽靠近活动槽的一侧内壁开设有活动口，所述活动槽内壁的顶部和底部分别与固定杆的顶端和底端固定连接，所述活动槽的内部活动插接有插入块，所述插入块的一端活动插接在插入槽的内部，所述插入块的上表面开设有固定口，所述固定口的内部活动套接在固定杆的表面，所述插入块远离插入槽的一侧内壁固定连接有连接杆，所述连接杆远离插入块的一端穿过活动口的内部并延伸至转动槽内部，所述连接杆位于转动槽内部的一端固定连接有齿板，所述转动槽远离活动口的一侧内壁开设有转动口，所述转动口的内壁开设有限位槽，所述转动槽靠近活动口的一侧内壁开设有矩形槽，所述转动口的内部活动插接有转动块，所述转动块的外壁固定连接有限位块，所述限位块的表面位于限位槽的内部，所述转动块位于转动槽的内部的一端固定连接有挡板，所述挡板远离转动块的一侧面固定连接有齿轮，所述齿轮的表面与齿板的表面啮合，所述齿轮、挡板和转动块的内部均开设有矩形口，所述矩形口的内部活动插接有矩形杆，所述矩形杆的一端活动插接在矩形槽的内部，所述矩形杆远离矩形槽的一端固定连接有扭块。

优选的，所述卡接槽和卡接块的数量均为四个，且四个卡接槽均匀设置在固定槽内壁正面和背面的两边。

优选的，所述固定块的上表面开设有螺纹槽，且螺纹槽的与顶部电磁环固定连接。

优选的，所述活动口的宽度与连接杆的宽度相适配。

优选的，所述齿板靠近连接杆的一侧面与转动槽的内壁搭接。

优选的，所述齿轮的齿边始终与齿板的齿块相啮合，所述挡板的侧边与转动槽的内壁搭接。

优选的，所述矩形杆侧面的大小分别与矩形口和矩形槽侧面的大小相适配。

(三)有益效果