[实用新型]一种连续式的公自转结构的自动搬运溅射成膜装置

权利要求书

1.一种连续式的公自转结构的自动搬运溅射成膜装置，其特征在于：所述溅射成膜装置包括进出片室、镀膜室、搬运室以及外部基片架，其中所述搬运室设置在所述进出片室和所述镀膜室之间，所述搬运室内部设置有基片真空搬运系统，所述基片真空搬运系统用于实现所述进出片室和所述镀膜室之间的基片交换，所述进出片室和所述外部基片架之间通过外部机械手实现基片交换。

2.根据权利要求1所述的一种连续式的公自转结构的自动搬运溅射成膜装置，其特征在于：所述进出片室和所述镀膜室内设置有转架系统，其中所述转架系统可驱动所述基片公转、自转或同时公自转。

3.根据权利要求2所述的一种连续式的公自转结构的自动搬运溅射成膜装置，其特征在于：位于所述镀膜室的所述转架系统包括转架、固定大齿轮以及传输齿轮，所述固定大齿轮与所述传输齿轮相传动配合，其中所述转架用于装载所述基片，所述固定大齿轮用于驱动所述转架旋转以实现所述基片的公转，所述传输齿轮用于实现所述基片的自转。

4.根据权利要求1所述的一种连续式的公自转结构的自动搬运溅射成膜装置，其特征在于：所述基片真空搬运系统包括前后推进模组、旋转模组、两个取片机构，两个所述取片机构与所述前后推进模组相连接并可在所述前后推进模组的驱动下前后推进，所述旋转模组连接所述前后推进模组并可通过驱动所述两个取片机构旋转，进而实现所述进出片室和所述镀膜室之间的基片交换。

5.根据权利要求1所述的一种连续式的公自转结构的自动搬运溅射成膜装置，其特征在于：所述进出片室和所述镀膜室分别独立连接有真空泵，且所述进出片室和所述镀膜室内分别设置有溅射镀膜工艺单元。

6.根据权利要求5所述的一种连续式的公自转结构的自动搬运溅射成膜装置，其特征在于：布置在所述镀膜室内的溅射镀膜工艺单元包括感应耦合等离子体、溅射阴极单元；布置在所述进出片室内的溅射镀膜工艺单元包括加热单元、等离子体源以及防污膜源中的一种或两种及以上的组合。

7.根据权利要求1所述的一种连续式的公自转结构的自动搬运溅射成膜装置，其特征在于：所述进出片室和所述镀膜室之间设置有可启闭的真空插板阀，所述真空插板阀控制所述进出片室和所述镀膜室之间的连通状态。

8.根据权利要求1所述的一种连续式的公自转结构的自动搬运溅射成膜装置，其特征在于：所述溅射成膜装置还包括系统冷却水单元，自动化控制柜，其中所述系统冷却水单元用于提供冷却水，所述自动化控制柜用于集成所述溅射成膜装置的控制系统。

9.根据权利要求8所述的一种连续式的公自转结构的自动搬运溅射成膜装置，其特征在于：所述系统冷却水单元、所述自动化控制柜以及镀膜室集成固定在一设备架台上，进出片室和搬运室集成固定在另一设备架台上。

10.根据权利要求1所述的一种连续式的公自转结构的自动搬运溅射成膜装置，其特征在于：所述外部基片架为可旋转的基片转架，所述基片转架上的基片装载位是沿其旋转方向逐一布置的。