[实用新型]一种上料均匀的氟苯生产用反应釜

权利要求书

1.一种上料均匀的氟苯生产用反应釜，包括釜体(1)，其特征在于：所述釜体(1)的顶部安装有搅拌组件(2)，所述釜体(1)底部安装有高度调节组件(3)，所述搅拌组件(2)的底部贯穿釜体(1)且延伸至其内部，所述釜体(1)的底部安装有下料管(4)，所述下料管(4)的表面安装有阀门(5)，所述釜体(1)顶部的左右两侧均设置有输送泵(6)，所述输送泵(6)远离搅拌组件(2)的一侧安装有连通管(7)，所述输送泵(6)靠近搅拌组件(2)的一侧安装有输送管(8)，所述输送管(8)远离输送泵(6)的一端贯穿釜体(1)且延伸至其内部，位于釜体(1)内部的输送管(8)的底端安装有喷头(9)；

所述搅拌组件(2)包括电机(21)，所述电机(21)安装在釜体(1)的顶部，所述电机(21)的输出轴上安装有搅拌转轴(22)，所述搅拌转轴(22)远离电机(21)的一端贯穿釜体(1)且延伸至其内部，位于釜体(1)内部的搅拌转轴(22)表面从上至下安装有第一搅拌杆(23)、第二搅拌杆(24)和第三搅拌杆(25)；

所述高度调节组件(3)包括底板(31)，所述底板(31)设置在釜体(1)的下方，所述底板(31)顶部的左右两侧均安装有支撑板(32)，所述支撑板(32)的顶部设置有活动槽(33)，所述活动槽(33)的内部设置有固定板(34)，所述固定板(34)的顶部安装有固定套(35)，所述固定套(35)安装在釜体(1)的外表面，所述支撑板(32)的外侧设置有固定槽(36)，所述固定板(34)的表面设置有定位槽(37)，所述固定槽(36)的内部设置有螺纹杆(38)，所述螺纹杆(38)靠近釜体(1)的一端依次贯穿固定槽(36)和定位槽(37)且延伸至定位槽(37)的外部。

2.根据权利要求1所述的一种上料均匀的氟苯生产用反应釜，其特征在于：所述第一搅拌杆(23)的长度大于第二搅拌杆(24)，所述第二搅拌杆(24)的长度大于第三搅拌杆(25)。

3.根据权利要求1所述的一种上料均匀的氟苯生产用反应釜，其特征在于：所述釜体(1)底部的外形设置有圆形，所述阀门(5)设置为电磁阀。

4.根据权利要求1所述的一种上料均匀的氟苯生产用反应釜，其特征在于：所述螺纹杆(38)远离支撑板(32)的一侧设置有把手(10)，所述螺纹杆(38)的表面分别与固定槽(36)和定位槽(37)螺纹连接。

5.根据权利要求1所述的一种上料均匀的氟苯生产用反应釜，其特征在于：所述定位槽(37)的数量设置为四个，四个定位槽(37)从上至下等距离设置在固定板(34)的表面。