[实用新型]太阳能电池片及太阳能电池有效
| 申请号: | 202022765148.8 | 申请日: | 2020-11-25 |
| 公开(公告)号: | CN214123894U | 公开(公告)日: | 2021-09-03 |
| 发明(设计)人: | 邓瑞;孙翔 | 申请(专利权)人: | 比亚迪股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L31/0352 | 分类号: | H01L31/0352;H01L31/068;H01L31/049 |
| 代理公司: | 北京博雅睿泉专利代理事务所(特殊普通合伙) 11442 | 代理人: | 王永亮 |
| 地址: | 518118 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 太阳能电池 | ||
本实用新型涉及一种太阳能电池片及太阳能电池,太阳能电池片包括硅片基板,包括沿第一方向相背设置的第一表面和第二表面,在所述第一表面和所述第二表面分别掺杂形成至少一个P型掺杂区域和至少一个N型掺杂区域,其中沿所述第一表面的第二方向和所述第二表面的第二方向,所述P型掺杂区域和所述N型掺杂区域交替设置,沿所述第一方向,设置在所述第一表面的所述P型掺杂区域与设置在所述第二表面的所述N型掺杂区域相对设置,所述第一方向与所述第二方向垂直。本实用新型提高了太阳能电池片中载流子的分离和收集能力,提高了太阳能电池片的光电转换效率。
技术领域
本实用新型涉及太阳能电池领域,更具体地,本实用新型涉及一种太阳能电池片及太阳能电池。
背景技术
太阳能电池主要是以半导体材料为基础,并加以电极而形成电导通的器件。
参照图1所示,目前大多数太阳能电池的制造基于硅衬底材料,其制备工艺流程包括:去除硅片表面损伤层、制绒面、形成p型层和n型层,但是现有技术往往是在硅衬底的正面形成p型层,在硅衬底的背面形成n 型层,载流子迁移方向箭头L所示方向,载流子迁移率低,太阳能电池分离和收集载流子的能力弱,光电转换效率不高。
实用新型内容
本实用新型的一个目的是提供一种太阳能电池片及太阳能电池,以解决现有技术中太阳能电池的光电转换效率不高的问题。
根据本实用新型的第一方面,提供一种太阳能电池片,包括:
硅片基板,包括沿第一方向相背设置的第一表面和第二表面,
在所述第一表面和所述第二表面分别掺杂形成至少一个P型掺杂区域和至少一个N型掺杂区域,
其中沿所述第一表面的第二方向和所述第二表面的第二方向,所述P 型掺杂区域和所述N型掺杂区域交替设置,
沿所述第一方向,设置在所述第一表面的所述P型掺杂区域与设置在所述第二表面的所述N型掺杂区域相对设置,所述第一方向与所述第二方向垂直。
可选地,设置在所述第一表面的所述P型掺杂区域和与其相对设置的所述N型掺杂区域构成第一P-N结,设置在所述第一表面的所述P型掺杂区域和与其相邻设置的所述N型掺杂区域构成第二P-N结。
可选地,沿所述第二方向,相邻设置的所述P型掺杂区域和所述N型掺杂区域之间存在预设间距,所述预设间距的距离范围为100nm~15μm。
可选地,在所述第一表面和所述第二表面上均设置多个P型掺杂区域、多个N型掺杂区域,位于同一表面多个P型掺杂区域电连接,位于同一表面的多个N型掺杂区域电连接。
可选地,所述第一表面和所述第二表面均被划分为M个区域,每一所述区域沿所述第二方向的长度一致、每一所述区域沿第三方向的长度一致,所述第三方向与所述第二方向垂直;
每一所述区域被掺杂形成所述P型掺杂区域或者N型掺杂区域,M 为大于或者等于2的偶数。
可选地,在所述第一表面和所述第二表面分别形成减反射层,所述减反射层呈块状结构,每一块所述减反射层覆盖所述P型掺杂区域或所述N 型掺杂区域,每一块所述减反射层的形状与所述P型掺杂区域的形状或者所述N型掺杂区域的形状一致。
可选地,所述硅片基板为单晶硅基板或者多晶硅基板。
可选地,所述硅片基板为P型硅片基板或者为N型硅片基板。
根据本实用新型第二方面,提供一种太阳能电池,包括背板和设置在所述背板上的多个太阳能电池片,多个所述太阳能电池片电连接,多个所述太阳能电池片为第一方面所述的太阳能电池片。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





