[实用新型]一种散射光吸收体及激光加工头有效
申请号: | 202022743218.X | 申请日: | 2020-11-24 |
公开(公告)号: | CN213857680U | 公开(公告)日: | 2021-08-03 |
发明(设计)人: | 卢琳;李琪强 | 申请(专利权)人: | 上海波刺自动化科技有限公司 |
主分类号: | B23K26/70 | 分类号: | B23K26/70;B23K26/00 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 胡彬 |
地址: | 200241 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 散射 吸收体 激光 工头 | ||
1.一种散射光吸收体,用以吸收激光加工时产生的散射光,其特征在于,所述散射光吸收体(10)内设置有激光通道,所述激光通道沿所述激光的传播方向依次设置有横截面逐渐减小的吸收锥孔(11)和横截面逐渐增大的避让锥孔(12);且所述避让锥孔(12)的内壁上设置有第一吸收腔(13),所述吸收锥孔(11)用以吸收所述散射光(22)并将其反射到所述第一吸收腔(13)内,所述避让锥孔(12)用于使加工激光(21)通过。
2.如权利要求1所述的散射光吸收体,其特征在于,所述第一吸收腔(13)的内表面包括相对设置的第一反射面(131)和第二反射面(132),所述第二反射面(132)用于吸收并反射所述吸收锥孔(11)反射的所述散射光(22),并将所述散射光(22)反射至所述第一反射面(131),所述散射光(22)在所述第一吸收腔(13)内不断反射直至完全被吸收为止。
3.如权利要求2所述的散射光吸收体,其特征在于,所述第二反射面(132)从外至内沿所述激光的传播方向倾斜。
4.如权利要求1-3任一项所述的散射光吸收体,其特征在于,所述散射光吸收体(10)为一体成型结构。
5.如权利要求1-3任一项所述的散射光吸收体,其特征在于,所述散射光吸收体(10)为分体独立设置。
6.如权利要求5所述的散射光吸收体,其特征在于,所述散射光吸收体(10)包括独立设置且依次可拆卸连接的第一吸收环(101)、第二吸收环(102)和第三吸收环(103),且所述第一吸收环(101)和所述第二吸收环(102)上均设置有所述吸收锥孔(11),所述第二吸收环(102)上和所述第三吸收环(103)上均设置有避让锥孔(12),且所述第二吸收环(102)和所述第三吸收环(103)装配后形成所述第一吸收腔(13)。
7.如权利要求6所述的散射光吸收体,其特征在于,所述第一吸收环(101)底面上设置有第三反射面(141),所述第二吸收环(102)的顶面上设置有第四反射面(142),所述第一吸收环(101)和所述第二吸收环(102)装配后,所述第三反射面(141)、所述第四反射面(142)以及所述第一吸收环(101)的内壁和/或所述第二吸收环(102)的内壁形成第二吸收腔(14),所述第二吸收腔(14)用于吸收所述散射光(22)。
8.如权利要求7所述的散射光吸收体,其特征在于,所述第四反射面(142)包括平面部与弧面部,所述弧面部位于靠近所述激光通道的一侧,且所述弧面部靠近所述激光通道的一端向背离激光传播方向翘起。
9.如权利要求6所述的散射光吸收体,其特征在于,所述散射光吸收体(10)还包括第四吸收环(104),所述第四吸收环(104)设置在所述第二吸收环(102)和所述第三吸收环(103)之间,且至少部分所述第四吸收环(104)的底面外露于所述第一吸收腔(13)中。
10.一种激光加工头,其特征在于,包括权利要求1-9中任一项所述的散射光吸收体(10)。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海波刺自动化科技有限公司,未经上海波刺自动化科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202022743218.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种半导体芯片测试座
- 下一篇:一种液压镦锻机液压系统