[实用新型]堵水剂在多孔介质气水界面铺展和封堵性能的评价装置

权利要求书

1.堵水剂在多孔介质气水界面铺展和封堵性能的评价装置，包括透明圆柱形模型箱（1）、半圆弧面导轨（2）、半圆弧面光源（3）、CCD工业相机组、暗箱（7）、中间容器A（8）、中间容器B（9）、驱替泵（10）和计算机（11），其特征在于，所述透明圆柱形模型箱（1）由上端盖（12）、下端盖（13）和圆柱形筒体（14）组成，所述上端盖、下端盖分别与圆柱形筒体通过螺纹连接，所述筒体内部装有透明土试样（15），所述上端盖和下端盖的中心开有通孔，有管线通过两个通孔分别与中间容器A（8）、中间容器B（9）连接，所述中间容器A、中间容器B与驱替泵（10）连接；所述透明圆柱形模型箱左侧设置半圆弧面导轨（2），右侧设置半圆弧面光源（3）；所述CCD工业相机组包括CCD工业相机A（4）、CCD工业相机B（5）和CCD工业相机C（6），所述CCD工业相机A置于透明圆柱形模型箱正上方，CCD工业相机B安装于半圆弧面导轨上并可在导轨上滑动，CCD工业相机C置于透明圆柱形模型箱正下方；所述CCD工业相机组连接计算机（11），通过计算机控制拍照速度和频率；所述透明圆柱形模型箱、半圆弧面导轨、半圆弧面光源、CCD工业相机组均置于暗箱（7）中。

2.如权利要求1所述的堵水剂在多孔介质气水界面铺展和封堵性能的评价装置，其特征在于，所述半圆弧面光源与计算机连接，为成像提供光源。

3.如权利要求1所述的堵水剂在多孔介质气水界面铺展和封堵性能的评价装置，其特征在于，所述暗箱为长方体，为成像提供暗室条件。