[实用新型]一种密封机构及其高温反应系统

说明书

本发明提供一种密封机构，包括主体，所述主体具有安装孔，还包括四氟盘根和唇形密封圈；所述四氟盘根和所述唇形密封圈配合设置于所述安装孔内。还提供一种高温反应系统，包括反应室和转轴，所述转轴穿设于所述反应室；包括所述的密封机构，所述密封机构套设于所述转轴且所述四氟盘根紧邻所述反应室外壁。本发明的有益效果是：该密封机构具有四氟盘根，能够直接吸收逸出气体，更进一步，设置唇形密封圈，阻滞气体逸出，该唇形密封圈能够设置多个，从而提高阻滞效果。

技术领域

本发明涉及密封领域，特别是一种密封机构及其高温反应系统。

背景技术

现有的高温反应系统，一般涉及高温高压反应环境，在这种情况下，当转轴从反应室穿出，且该转轴相对反应室进行转动时，会发生反应室内气体逸出的现象，从而导致污染环境，例如，逸出氟化氢气体。

发明内容

为了解决上述现有的技术问题，本发明提供一种密封机构及其高温反应系统，该密封机构具有四氟盘根，能够直接吸收逸出气体，更进一步，设置唇形密封圈，阻滞气体逸出。

本发明解决上述现有的技术问题，提供一种密封机构，包括主体，所述主体具有安装孔，还包括四氟盘根和唇形密封圈；所述四氟盘根和所述唇形密封圈配合设置于所述安装孔内。

本发明更进一步的改进如下所述。

所述四氟盘根位于所述主体的密封侧。

所述唇形密封圈位于所述主体的另一侧。

所述唇形密封圈为多个，线性阵列排列。

所述主体具有四氟盘根室，用于设置所述四氟盘根；所述主体具有唇形密封圈室，用于设置所述唇形密封圈。

所述主体分成串连的第一密封体和第二密封体，所述第一密封体包围所述四氟盘根；所述第二密封体设置所述唇形密封圈。

所述主体还包括第三密封体，所述第一密封体、所述第二密封体、所述第三密封体顺序串连成一体。

所述第二密封体的外侧设置唇形密封圈室，所述第三密封体抵接一唇形密封圈。

本发明解决上述现有的技术问题，提供一种高温反应系统，包括反应室和转轴，所述转轴穿设于所述反应室；包括所述的密封机构，所述密封机构套设于所述转轴且所述四氟盘根紧邻所述反应室外壁。

本发明更进一步的改进如下所述。

所述密封机构为两套，分别设置于所述转轴伸出所述反应室的位置。

相较于现有技术，本发明的有益效果是：该密封机构具有四氟盘根，能够直接吸收逸出气体，更进一步，设置唇形密封圈，阻滞气体逸出，该唇形密封圈能够设置多个，从而提高阻滞效果。

附图说明

图1为本发明密封机构的剖面示意图。

图2为本发明高温反应系统的剖面示意图。