[实用新型]离子源清洁装置有效
| 申请号： | 202022700700.5 | 申请日： | 2020-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN213792968U | 公开（公告）日： | 2021-07-27 |
| 发明（设计）人： | 韩乐乐;吴云昭;尚元贺;张亚芳;李向广;蔡克亚;张瑞峰 | 申请（专利权）人： | 安图实验仪器（郑州）有限公司 |
| 主分类号： | B08B1/00 | 分类号： | B08B1/00;B08B13/00;H01J49/02 |
| 代理公司： | 郑州异开专利事务所(普通合伙) 41114 | 代理人： | 韩华 |
| 地址： | 450016 河南省郑*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 离子源 清洁 装置 | ||
1.一种离子源清洁装置，其特征在于：包括
安装单元，具有一上安装面和一下安装面；
弹性清洁单元，设置在所述安装单元的所述上安装面上；以及
连接单元，使所述下安装面贴设在质谱仪靶板定位结构的靶板安装槽内；
其中，当所述离子源清洁装置移动至质谱仪的离子源下方时，所述弹性清洁单元的上表面抵在所述离子源的下表面并擦拭堆积在离子源上的残留离子。
2.根据权利要求1所述的离子源清洁装置，其特征在于：所述下安装面的中部具有一凹槽，所述连接单元为嵌设在所述凹槽内的磁铁块。
3.根据权利要求1所述的离子源清洁装置，其特征在于：所述安装单元上安装面上具有一凸起部，与所述凸起部对应处的所述弹性清洁单元擦拭所述质谱仪的离子源的下表面。
4.根据权利要求3所述的离子源清洁装置，其特征在于：与所述凸起部对应处的所述弹性清洁单元上表面具有呈条状结构的凸条，所述凸条的长度与清洁擦拭方向相互垂直。
5.根据权利要求3所述的离子源清洁装置，其特征在于：与所述凸起部对应处的所述弹性清洁单元上表面具有呈网状结构的凸楞。
6.根据权利要求3-5任一项所述的离子源清洁装置，其特征在于：还包括罩设在所述安装单元上的保护单元。
7.根据权利要求6所述的离子源清洁装置，其特征在于：所述保护单元包括罩设在所述安装单元上的保护罩，且所述保护罩具有一与所述凸起部上下对应的通槽，使与凸起部对应处的所述弹性清洁单元向上穿出所述通槽。
8.根据权利要求1所述的离子源清洁装置，其特征在于：所述安装单元的所述下安装面的每个长边的边缘处均开设有限位槽，所述靶板安装槽的一长边边缘处设置有与所述限位槽匹配的定位凸起。
9.根据权利要求1所述的离子源清洁装置，其特征在于：所述安装单元为由不锈钢材质制成的安装板，所述弹性清洁单元为由聚氨酯材质制成的弹性擦拭板。
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