[实用新型]一种高方阻金属化薄膜有效
| 申请号： | 202022688902.2 | 申请日： | 2020-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN213601763U | 公开（公告）日： | 2021-07-02 |
| 发明（设计）人： | 钟秀珍;陈有华;李根 | 申请（专利权）人： | 佛山易事达电容材料有限公司 |
| 主分类号： | H01G4/015 | 分类号： | H01G4/015;H01G4/005 |
| 代理公司： | 佛山卓就专利代理事务所(普通合伙) 44490 | 代理人： | 陈雪梅 |
| 地址： | 528000 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 高方阻 金属化 薄膜 | ||
【权利要求书】：
1.一种高方阻金属化薄膜，包括经等离子处理的基膜，其特征在于，所述基膜的上方设有金属薄膜，所述金属薄膜包括加厚区和普通区，所述加厚区和所述普通区连接，且所述加厚区和所述普通区设于所述基膜的上方，所述加厚区的方阻在2Ω/□到4Ω/□之间，所述普通区的方阻在100Ω/□到250Ω/□之间。
2.根据权利要求1所述的一种高方阻金属化薄膜，其特征在于：所述基膜的材质为聚丙烯。
3.根据权利要求1所述的一种高方阻金属化薄膜，其特征在于：还包括保护油，所述保护油设于所述金属薄膜的上方。
4.根据权利要求3所述的一种高方阻金属化薄膜，其特征在于：所述保护油为硅油。
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