[实用新型]半导体设备的陶瓷部件高温烘烤用莫来石耐高温治具

说明书

本实用新型涉及机械技术领域。半导体设备的陶瓷部件高温烘烤用莫来石耐高温治具，其特征在于，包括至少三个等间隔角度排布的支撑块；每个支撑块的外侧呈阶梯状；所述支撑块包括至少三个从上至下排布的支撑面，且每个支撑面均相互平行，位于上方的支撑面的纵向投影位于下方的支撑面纵向投影的内侧；所述支撑块的材质是莫来石。本专利通过选取莫来石作为支撑块，便于适用于烘烤温度在范围情况下的高温作业。使用时，将尺寸一致的支撑块按中心辐射方式摆放，等间隔角度摆放，平放于井式烤箱，陶瓷部件按直径从大到小，从下往上摆放，完成高温烘烤。取陶瓷部件时，从上往下分层取出完成烘烤作业的陶瓷部件。

技术领域

本实用新型涉及机械技术领域，具体是烘烤用治具。

背景技术

半导体器件进行加工时，烘烤时工序之一。

由于针对于不同结构的半导体器件，半导体器件的圆形或环形的陶瓷部件，由于直径不一，而且大小相差明显，为了保证易碎陶瓷部件的安全，往往在高温烘箱内并排摆放陶瓷部件，且陶瓷部件的最多同时摆放2件。完整高温烘烤作业需要72小时，在单个烘烤作业周期内，存在井式烤箱空间利用率低，产能低的情况。

实用新型内容

针对现有技术存在的问题，本实用新型提供半导体设备的陶瓷部件高温烘烤用莫来石耐高温治具，以解决以上至少一个技术问题。

为了达到上述目的，本实用新型提供了半导体设备的陶瓷部件高温烘烤用莫来石耐高温治具，其特征在于，包括至少三个等间隔角度排布的支撑块；

每个支撑块的外侧呈阶梯状，所述支撑块包括至少三个从上至下排布的支撑面，且每个支撑面均相互平行，位于上方的支撑面的纵向投影位于下方的支撑面纵向投影的内侧；

所述支撑块的材质是莫来石。

本专利通过选取莫来石作为支撑块，便于适用于烘烤温度在范围情况下的高温作业。

使用时，将尺寸一致的支撑块按中心辐射方式摆放，等间隔角度摆放，平放于井式烤箱，陶瓷部件按直径从大到小，从下往上摆放，完成高温烘烤。取陶瓷部件时，从上往下分层取出完成烘烤作业的陶瓷部件。

进一步优选的，所述支撑块设有三个。

作为一种优选方案，还包括一支撑板，所述支撑板的材质是莫来石；

所述支撑板设有等间隔角度排布的安装柱；

所述支撑块上设有与所述安装柱纵向插接的插孔。

便于实现支撑块的等间隔角度排布。

进一步优选的，所述安装柱的横截面面积呈多边形。

便于单个安装柱即可实现支撑块角度的限位。

作为另一种优选方案，还包括一支撑板，所述支撑板的材质是莫来石；

所述支撑块与所述支撑板径向上滑动连接；

所述支撑板上设有用于支撑块径向滑动时定位的定位标识线。

便于周向排布的支撑块距离中心的间距滑动至统一的位置。

进一步优选的，所述定位标识线是与支撑块的个数相匹配的刻度线，所述刻度线与所述支撑块一一对应，且相邻设置；

所述刻度线的长度方向与所述支撑块的长度方向相互平行。

作为另一种优选方案，还包括一支撑板，所述支撑板的中央与一转轴转动连接；

所述支撑块与所述支撑板径向上滑动连接；

所述支撑块与第一连杆的一端铰接，所述第一连杆的另一端与第二连杆的一端铰接，所述第二连杆的另一端固定在所述转轴的外围；