[实用新型]纳米气泡发生器及纳米气泡装置有效
| 申请号: | 202022530954.7 | 申请日: | 2020-11-05 |
| 公开(公告)号: | CN213853925U | 公开(公告)日: | 2021-08-03 |
| 发明(设计)人: | 高姗 | 申请(专利权)人: | 高姗 |
| 主分类号: | B01F3/04 | 分类号: | B01F3/04;B01F13/06;B01F5/00;B01F5/06 |
| 代理公司: | 北京汉德知识产权代理事务所(普通合伙) 11328 | 代理人: | 刘子文;王斌腾 |
| 地址: | 200061 上海市普陀区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 纳米 气泡 发生器 装置 | ||
纳米气泡发生器,形成有流体通道(1),流体通道包括沿第一方向(L)连续设置的进液段(10)、细颈段(20)、负压腔(30)和出液段(40)。进液段具有大径端(11)和小径端(12)以形成圆锥台形,进液段的轴线平行于第一方向。细颈段为圆柱形并与进液段同轴设置,细颈段的一端与小径端衔接,细颈段的直径与小径端的直径相等且为小于等于1.0mm。位于负压腔沿第一方向的两侧的腔壁分别为第一平面和第二平面,第一平面和第二平面之间的距离为0.4cm至2cm,第一平面具有与细颈段的另一端衔接的第一开口,第二平面具有与出液段的一端衔接的第二开口。该纳米气泡发生器结构简单且能产生纳米气泡。本实用新型还提供了包括上述纳米气泡发生器的纳米气泡装置。
技术领域
本实用新型涉及纳米气泡发生器,特别是结构简单的纳米气泡发生器及包括其的纳米气泡装置。
背景技术
现有的纳米气泡发生器结构复杂,存在加工困难使用寿命短的问题。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种纳米气泡发生器,通过其简单的结构能够产生纳米气泡。
本实用新型的另一个目的是提供一种纳米气泡装置,其纳米气泡发生器通过简单的结构能够产生纳米气泡。
本实用新型提供了一种纳米气泡发生器,其形成有一个流体通道,流体通道包括沿一个第一方向连续设置的一个进液段、一个细颈段、一个负压腔和一个出液段。进液段具有一个大径端和一个小径端以形成为圆锥台形。进液段的轴线平行于第一方向。细颈段为圆柱形并与进液段同轴设置,细颈段的一端与小径端衔接,细颈段的直径与小径端的直径相等且为小于等于1.0mm。位于负压腔沿第一方向的两侧的腔壁分别为第一平面和第二平面,第一平面和第二平面均垂直于第一方向且两者之间的距离为0.4cm至2cm。第一平面具有一个第一开口,第一开口与细颈段的另一端衔接。第二平面具有一个第二开口,第二开口与出液段的一端衔接。
该纳米气泡发生器结构简单且能够产生纳米气泡。
在纳米气泡发生器的再一种示意性实施方式中,纳米气泡发生器的形成进液段的内表面凹陷形成至少一个引流槽,各所述引流槽沿进液段的圆锥台形的母线设置。以产生更多的纳米气泡。
在纳米气泡发生器的另一种示意性实施方式中,负压腔为圆柱形且与进液段和细颈段同轴设置,以便于加工。纳米气泡发生器沿负压腔的周向环绕负压腔的内表面凹陷形成有至少一个环形槽,环形槽沿负压腔的周向环绕设置,以利于增加流体在负压腔内的搅拌次数。
在纳米气泡发生器的又一种示意性实施方式中,在第一平面上还形成有至少一个凹坑,以利于增加纳米气泡产生的数量。
在纳米气泡发生器的又一种示意性实施方式中,凹坑为半球形,以便于加工。
本实用新型还提供了一种纳米气泡装置,它包括上述纳米气泡发生器和一个外壳。外壳呈管状且套设于纳米气泡发生器。外壳具有一个进端和一个出端,进端与进液段的大径端连通,出端与出液段连通。该纳米气泡装置结构简单,其纳米气泡发生器能够产生大量的纳米气泡。
在纳米气泡发生装置的再一种示意性实施方式中,出端包括沿第一方向连续设置的一个容腔和至少一个流出通道。容腔垂直于第一方向的截面面积大于出液段垂直于第一方向的截面面积,容腔与出液段衔接。各流出通道与容腔连通。
附图说明
以下附图仅对本实用新型做示意性说明和解释,并不限定本实用新型的范围。
图1为纳米气泡发生器的第一种示意性实施方式的剖视图。
图2为纳米气泡发生器的第二种示意性实施方式的剖视图。
图3为沿图2中Ⅱ-Ⅱ的剖视图。
图4为纳米气泡发生器的第三种示意性实施方式的剖视图。
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