[实用新型]内嵌金属基氮化物材料外延衬底有效
| 申请号： | 202022428035.9 | 申请日： | 2020-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN212967679U | 公开（公告）日： | 2021-04-13 |
| 发明（设计）人： | 王琦;梁智文;刘南柳;汪青;张国义 | 申请（专利权）人： | 北京大学东莞光电研究院 |
| 主分类号： | H01L23/373 | 分类号： | H01L23/373;H01L23/14;H01L23/13 |
| 代理公司： | 东莞恒成知识产权代理事务所(普通合伙) 44412 | 代理人： | 韩丹 |
| 地址： | 523000 广东省东莞*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 金属 氮化物 材料 外延 衬底 | ||
【权利要求书】：
1.一种内嵌金属基氮化物材料外延衬底，包括衬底，其特征在于：所述衬底制有若干个凹坑，每个所述凹坑内依次生长有第一金属介质层、第二金属介质层和第三金属介质层，所述第三金属介质层在所述凹坑内生长至覆盖所述衬底。
2.根据权利要求1所述的内嵌金属基氮化物材料外延衬底，其特征在于：所述第一金属介质层为沉积铜层，所述沉积铜层的厚度为0.01μm-3μm。
3.根据权利要求1所述的内嵌金属基氮化物材料外延衬底，其特征在于：所述第二金属介质层为化学镀铜层，所述化学镀铜层的厚度为3μm-30μm。
4.根据权利要求1所述的内嵌金属基氮化物材料外延衬底，其特征在于：所述第三金属介质层为电镀铜层，所述电镀铜层的厚度为50μm-1000μm。
5.根据权利要求1所述的内嵌金属基氮化物材料外延衬底，其特征在于：所述衬底的厚度为3.41μm-34.1μm。
6.根据权利要求1所述的内嵌金属基氮化物材料外延衬底，其特征在于：所述衬底为硅、蓝宝石、碳化硅、氮化铝或者氮化镓中的一种。
7.根据权利要求1所述的内嵌金属基氮化物材料外延衬底，其特征在于：所述凹坑的深度为3.4μm-34μm。
8.根据权利要求1所述的内嵌金属基氮化物材料外延衬底，其特征在于：所述凹坑呈矩阵排列。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京大学东莞光电研究院，未经北京大学东莞光电研究院许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202022428035.9/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
