[实用新型]一种石英晶片生产用清洗装置

说明书

本实用新型涉及石英晶片生产技术领域，公开了一种石英晶片生产用清洗装置，包括晶片清洗槽和石英晶片，还包括液压升降旋转贴合清洗机构，所述晶片清洗槽的内腔设置有石英晶片，所述石英晶片和液压升降旋转贴合清洗机构活动连接，所述液压升降旋转贴合清洗机构设置在晶片清洗槽的内腔和顶部位置，所述液压升降旋转贴合清洗机构包括液压泵、减速电机、输出转轴、安装转板、稳固连接杆、清洗棉安装板、压缩清洗棉、侧边环挡板、放置棉和支撑台，所述液压泵的底端固定安装有减速电机，所述减速电机的底部中心通孔处活动连接有输出转轴。本实用新型可在保障石英晶片之间不会发生碰撞损坏情况下对其外表面的尘土和杂质记性便捷高效清洗去除工作。

技术领域

本实用新型涉及石英晶片生产技术领域，具体为一种石英晶片生产用清洗装置。

背景技术

用于电子材料类制作的石英晶片在进行生产加工之前，需要对其外表面沾附的尘土和杂质进行有效的去除工作，一般可通过水冲洗的方式来进行，而因为石英晶片的数量大的问题，如果一一进行清洗的话会浪费很多的时间，减慢生产效率，但将石英晶片混合在一起集中清洗的话，水流可能导致晶体之间相互触碰摩擦，对石英晶片的侧部外表面造成磨损的情况。

实用新型内容

本实用新型提供了一种石英晶片生产用清洗装置，该石英晶片生产用清洗装置，解决了因为石英晶片的数量大的问题，如果一一进行清洗的话会浪费很多的时间，减慢生产效率，但将石英晶片混合在一起集中清洗的话，水流可能导致晶体之间相互触碰摩擦，对石英晶片的侧部外表面造成磨损的问题。

为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：一种石英晶片生产用清洗装置，包括晶片清洗槽和石英晶片，还包括液压升降旋转贴合清洗机构，所述晶片清洗槽的内腔设置有石英晶片，所述石英晶片和液压升降旋转贴合清洗机构活动连接，所述液压升降旋转贴合清洗机构设置在晶片清洗槽的内腔和顶部位置；

所述液压升降旋转贴合清洗机构包括液压泵、减速电机、输出转轴、安装转板、稳固连接杆、清洗棉安装板、压缩清洗棉、侧边环挡板、放置棉和支撑台；

所述液压泵的底端固定安装有减速电机，所述减速电机的底部中心通孔处活动连接有输出转轴，所述输出转轴的底端固定安装有安装转板，所述安装转板的底端固定安装有稳固连接杆，所述稳固连接杆的底端固定连接有清洗棉安装板，所述清洗棉安装板的底部固定安装有压缩清洗棉，所述清洗棉安装板的侧部外表面固定安装有侧边环挡板，所述压缩清洗棉设置在侧边环挡板的内侧，所述压缩清洗棉的底部活动连接有放置棉，所述石英晶片设置在压缩清洗棉和放置棉的连接处，所述放置棉固定安装在支撑台的顶部。

优选的，所述支撑台的底部固定安装有支撑杆，所述支撑杆固定安装在底座的顶部。

优选的，所述晶片清洗槽的一侧底部开设的孔洞处固定安装有排水管，所述排水管的外表面固定安装有水泵。

优选的，所述水泵的一侧和底部分别与晶片清洗槽的一侧和底座的顶部固定连接。

优选的，所述晶片清洗槽的底部和底座的顶部固定连接。

优选的，所述液压泵的两侧通过支撑架和底座的顶部两侧固定连接。

借由上述技术方案，本实用新型提供了一种石英晶片生产用清洗装置。至少具备以下有益效果：

(1)、该石英晶片生产用清洗装置，运用液压升降旋转贴合清洗机构，首先将石英晶片间隔放置在支撑台上的放置棉上，开启液压泵推动清洗棉安装板底部的压缩清洗棉和石英晶片以及放置棉接触贴合，但保证清洗棉安装板不触碰到石英晶片，以防止清洗棉安装板和石英晶片发生摩擦的情况，接着往晶片清洗槽中注入清洗水源，使水源淹盖石英晶片，开启减速电机，输出转轴带动安装转板底部通过稳固连接杆连接的清洗棉安装板转动，其底部的压缩清洗棉跟随转动与放置棉对石英晶片形成包裹并对其进行摩擦清洗，在保障石英晶片之间不会发生碰撞损坏情况下对其外表面的尘土和杂质记性便捷高效清洗去除工作。