[实用新型]一种用于合成甲磺草胺中间体的设备

说明书

本实用新型属于甲磺草胺的合成领域，具体涉及一种用于合成甲磺草胺中间体的设备,包括合成反应釜，所述反应釜的底部设有分布式进料器，所述反应釜的内壁和所述分布式进料器的表面设有哈氏合金‑C276的涂层。哈氏合金‑C276可在一定程度上耐受氟化氢的强腐蚀性和反应过程中的高温，通过设置分布式进料器可效地调整进料速度，控制反应速度，防止反应温度过高，将所述分布式进料器设置于反应釜的底部有利于物料地充分混合，促进反应地充分快速进行，防止反应温度过高，总之通过上述设置，有利于降低反应过程中的温度，减少氢氟酸对反应釜的腐蚀。

技术领域

本实用新型属于甲磺草胺的合成领域，具体涉及一种合成甲磺草胺中间体的设备。

背景技术

甲磺草胺产品为原卟啉原氧化酶(PPO)抑制剂，主要通过抑制杂草叶绿体的生物合成来杀灭杂草。可以通过杂草的根部和叶部吸收，并在外质体中移动，在韧皮部的运动能力有限，可用于大豆田、甘蔗田、烟草田、花生田、玉米田等作物上中阔叶杂草和莎草科杂草的防控。甲磺草胺作为全球前十用量的除草剂产品其市场前景相当可观，但其合成的过程涉及到高温，且合成的过程中用到氟利昂进行氟化反应，有少量的副产物-氟化氢产生，氟化氢具有强烈腐蚀性，一般设备如搪瓷、碳钢、不锈钢耐不住腐蚀、而四氟的材料耐不住高温，因此现有技术中还没有较为实用的合成甲磺草胺的设备。

实用新型内容

本实用新型提供一种用于合成甲磺草胺中间体的设备，包括合成反应釜，所述反应釜的底部设有分布式进料器，所述反应釜的内壁和所述分布式进料器的表面设有哈氏合金-C276的涂层。

经过多次地研究和尝试发现，哈氏合金-C276可在一定程度上耐受氟化氢的强腐蚀性和反应过程中的高温，通过设置分布式进料器可效地调整进料速度，将所述分布式进料器设置于反应釜的底部有利于物料地充分混合，促进反应地充分快速进行，防止反应温度过高，总之通过上述设置，有利于降低反应过程中地温度且减少反应物对反应釜的腐蚀。

优选的，所述反应釜的进料口设于所述反应釜的底部，所述进料口通过连接管与所述分布式进料器相连，所述连接管的表面设有哈氏合金-C276的涂层。由于进料分布器设于所述反应釜的底部，将所述进料口设于反应釜的底部可减少进料口与分布式进料器之间的长度，减少哈氏合金的涂覆面积，降低设备成本。

优选的，其特征在于，所述反应釜的出料口与进料口为同一开口，所述原料储罐、进出料管道和出料管道通过三通接头进行连接；所述原料储罐与所述三通接头之间、进出料口与所述三通接头之间以及所述出料管道上均设有阀门。将的述出料口与进料口设置为同一开口可简化设备的结构。通过设置三通，当需要进料时，打开原料储罐与三通接头之间的阀门和三通接头与进出料口之间的阀门，关闭出料管道上的阀门，当需要出料时，打开所述出料管道上的阀门和三通接头与进出料口之间的阀门，通过上述设置可进出料口共用一个开口的情况下实现方便地进料和出料。

本实用新型中，由于反应釜的出料口与进料口为同一开口，将其称为进出料口。

优先的，所述分布式进料器为环形管状，在管壁上设有多个气体出口。

优选的，所述反应釜的外壁设有用于平衡釜体内压力的汽升管，所述汽升管的内壁设有哈氏合金-C276的涂层。由于反应后的气体温度较高，因此汽升管的管壁的温度也较高，通过在其内壁设置哈氏合金-C276的涂层可有效地防止内壁被气体腐蚀。

优选的，所述汽升管通过冷凝器连接至余料出口，通过冷凝器可将使反应釜内剩余的气体降温，防止过多地溢出到外部大气。

优选的，所述冷凝器内的通气管道由石墨制备而成，由于冷凝器可对气体起到一定的降温作用，降温后的气体腐蚀性减弱，石墨制备成的管道即可防止其腐蚀。

优选的，所述冷凝器与所述余料出口之间的管道由四氟乙烯制备而成。由于经过冷凝器后大部分的氟化氢已回到反应釜因此该管道选择四氟乙烯即可，不会对设备造成腐蚀和破坏。