[实用新型]单晶硅检测样片混酸抛光清洗装置

权利要求书

1.一种单晶硅检测样片混酸抛光清洗装置，其特征在于：包括混酸槽、酸液恒温部件、隔膜泵，所述混酸槽的出口端通过管道与隔膜泵的入口端连通，所述隔膜泵的出口端通过管道与酸液恒温部件的入口端连通，所述酸液恒温部件的出口端通过管道与混酸槽的入口端连通，所述酸液恒温部件包括酸液热交换组件、恒温组件，所述酸液热交换组件包括箱体，所述箱体内的顶部固定设置有上部缓冲箱、箱体内的底部固定设置下部缓冲箱，所述箱体的内部设置有恒温介质输送管，所述恒温介质输送管的入口端与下部缓冲箱的内部连通，恒温介质输送管的出口端与上部缓冲箱的内部连通，所述恒温组件的入口端通过管道与上部缓冲箱的内部连通，恒温组件的出口端通过管道与下部缓冲箱的内部连通。

2.根据权利要求1所述的单晶硅检测样片混酸抛光清洗装置，其特征在于：所述箱体的外部固定设置有酸液输入管、酸液输出管，所述酸液输入管、酸液输出管均与箱体的内部连通。

3.根据权利要求2所述的单晶硅检测样片混酸抛光清洗装置，其特征在于：所述酸液输入管位于箱体的上部，酸液输入管与隔膜泵的出口端通过管道连通，所述酸液输出管位于箱体的下部，酸液输出管与混酸槽的入口端通过管道连通。

4.根据权利要求1所述的单晶硅检测样片混酸抛光清洗装置，其特征在于：所述恒温介质输送管呈S形。

5.根据权利要求4所述的单晶硅检测样片混酸抛光清洗装置，其特征在于：所述恒温介质输送管沿箱体内部等距设置。

6.根据权利要求1所述的单晶硅检测样片混酸抛光清洗装置，其特征在于：所述混酸槽内设置有温度检测器。

7.根据权利要求1所述的单晶硅检测样片混酸抛光清洗装置，其特征在于：所述箱体的内部设置有温度检测器。