[实用新型]一种用于CVD涂层设备的反应腔体内压力动态平衡控制系统

权利要求书

1.一种用于CVD涂层设备的反应腔体内压力动态平衡控制系统，包括反应腔体(12)，其特征在于：所述反应腔体(12)底部分别固定安装有进气口(1)、第一压力变送器(2)与出气口(3)，所述出气口(3)的一端固定连接有冷凝阱(4)，所述冷凝阱(4)的一端固定安装有第一气动球阀(5)，所述第一气动球阀(5)的一端固定连接有电动控制波纹管阀(6)，所述电动控制波纹管阀(6)的一端固定连接有第二气动球阀(7)，所述第二气动球阀(7)的一端固定连接有液环真空泵(9)，所述液环真空泵(9)的一端固定安装有液环真空泵排出口(11)，所述液环真空泵(9)的另一端固定安装有NaOH液体入口(10)。

2.根据权利要求1所述的一种用于CVD涂层设备的反应腔体内压力动态平衡控制系统，其特征在于：所述第二气动球阀(7)与液环真空泵(9)之间固定安装有第二压力变送器(8)。

3.根据权利要求1所述的一种用于CVD涂层设备的反应腔体内压力动态平衡控制系统，其特征在于：所述出气口(3)出气量受到电动控制波纹管阀(6)的控制。

4.根据权利要求1所述的一种用于CVD涂层设备的反应腔体内压力动态平衡控制系统，其特征在于：所述反应腔体(12)内的压力受到电动控制波纹管阀(6)控制。