[实用新型]一种具有通用功能的晶圆片涂布机有效
申请号: | 202022246768.0 | 申请日: | 2020-10-10 |
公开(公告)号: | CN213409275U | 公开(公告)日: | 2021-06-11 |
发明(设计)人: | 戚孝峰;周鹏程;王哲琦 | 申请(专利权)人: | 争丰半导体科技(苏州)有限公司 |
主分类号: | B05C13/02 | 分类号: | B05C13/02 |
代理公司: | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人: | 苏利 |
地址: | 215000 江苏省苏州市相城区相城*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 具有 通用 功能 晶圆片涂布机 | ||
本申请涉及涂布机的领域,尤其是涉及一种具有通用功能的晶圆片涂布机,其包括容纳架,容纳架上设置有第一放置支架和第二放置支架,第一放置支架和第二放置支架之间形成用于放置晶圆片的放置空间;第一放置支架和第二放置支架均水平滑动设置在容纳架上,第一放置支架和第二放置支架的滑动方向相反。本申请具有提高晶圆片涂布机的适用范围的效果。
技术领域
本申请涉及涂布机的领域,尤其是涉及一种具有通用功能的晶圆片涂布机。
背景技术
晶圆是指制作半导体电路所用的硅晶片,广泛应用在集成电路生产制造中。晶圆片为了后续的蒸镀以及显影等制程,晶圆片会先进行溶剂(如光阻)的涂布。
常规的涂布机在进行涂布过程中设置有用于放置晶圆片的放置支架,但是放置支架一般为固定尺寸,对于固定尺寸的放置支架无法适用于不同尺寸的晶圆片的放置,导致在进行涂布作业时一台涂布机只能适用于一种的晶圆片。
针对上述中的相关技术,发明人认为常规的涂布机在进行涂布作业时,由于放置支架为固定尺寸,因此一台涂布机只能适用于一种晶圆片进行涂布,其适用范围有限。
实用新型内容
为了提高晶圆片涂布机的适用范围,本申请提供一种具有通用功能的晶圆片涂布机。
本申请提供的一种具有通用功能的晶圆片涂布机采用如下的技术方案:
一种具有通用功能的晶圆片涂布机,包括容纳架,所述容纳架上设置有第一放置支架和第二放置支架,所述第一放置支架和第二放置支架之间形成用于放置晶圆片的放置空间;所述第一放置支架和第二放置支架均水平滑动设置在容纳架上,所述第一放置支架和第二放置支架的滑动方向相反。
通过采用上述技术方案,第一放置支架和第二放置支架均可滑动,即可以调节第一放置支架和第二放置支架之间的距离,使得第一放置支架和第二放置支架可以通过调节距离进行不同尺寸的晶圆片的放置,提高了晶圆片涂布机的适用范围。
可选的,所述容纳架上设置有第一输送辊和第二输送辊,所述第一输送辊和第二输送辊的中心轴均沿竖直方向设置,所述第一输送辊的中心处连接有输送电机;所述第一输送辊和第二输送辊之间设置有输送皮带;所述第一放置支架和第二放置支架分别与输送皮带相对设置的两侧连接。
通过采用上述技术方案,通过输送电机的电机轴的转动,可以带动输送皮带移动,进而使得第一放置支架和第二放置支架相向运动或相背运动,进而调节第一放置支架和第二放置支架之间的距离,提高了晶圆片涂布机的适用范围。
可选的,所述第一放置支架由第一水平部和第一竖直部组成,所述第一水平部与第一竖直部相互垂直设置,所述第一竖直部位于第一水平部远离第二放置支架的一侧;所述第二放置支架由第二水平部和第二竖直部组成,所述第二水平部与第二竖直部相互垂直设置,所述第二竖直部位于第二水平部远离第一放置支架的一侧。
通过采用上述技术方案,第一水平部和第一竖直部相互垂直,第二水平部和第二竖直部相互垂直,即第一竖直部和第二竖直部能够起到一定的限位作用,防止晶圆片由第一放置支架和第二放置支架上滑落。
可选的,所述容纳架的一侧设置有放置架,所述放置架上设置有放置平台;所述放置平台上可拆卸连接有放置盒,所述放置平台上设置有若干卡块,若干所述卡块与放置盒卡接。
通过采用上述技术方案,放置盒可拆卸设置在放置平台上,能够进行不同规格的放置盒的更换,进而能够提高晶圆片涂布机的适用范围。
可选的,所述第一水平部靠近放置架的一端由低到高倾斜设置,所述第二水平部靠近放置架的一端由低到高倾斜设置。
通过采用上述技术方案,第一水平部和第二水平部的倾斜设置,能够起到导向作用,使得晶圆片更方便的放置在第一放置支架和第二放置支架之间。
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