[实用新型]一种肖特基二极管倒晶结构有效

专利信息
申请号: 202022238003.2 申请日: 2020-10-10
公开(公告)号: CN212848417U 公开(公告)日: 2021-03-30
发明(设计)人: 张国俊 申请(专利权)人: 无锡国电资通科技有限公司
主分类号: H01L29/872 分类号: H01L29/872;H01L29/06;H01L23/367
代理公司: 无锡智麦知识产权代理事务所(普通合伙) 32492 代理人: 刘咏华
地址: 214000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 肖特基 二极管 结构
【权利要求书】:

1.一种肖特基二极管倒晶结构,包括基板(1),其特征在于:所述基板(1)的上表面贴合固定设置连接有衬底(2),所述衬底(2)的上表面贴合固定连接有外延层(3),所述外延层(3)的上表面贴合固定连接有顶板(4),所述顶板(4)与外延层(3)之间设置有多个P型单晶硅(5)填充,所述基板(1)、衬底(2)、外延层(3)和顶板(4)的整体外侧包置有封装(7),所述衬底(2)和外延层(3)的整体外侧包置有陶瓷(8),且陶瓷(8)贯穿至封装(7)的外侧。

2.根据权利要求1所述的一种肖特基二极管倒晶结构,其特征在于:所述基板(1)和顶板(4)为金属板结构,所述基板(1)的上表面与衬底(2)的下表面充分贴合,所述顶板(4)的下表面中部位置与外延层(3)的上表面贴合,所述顶板(4)的下表面两侧与外延层(3)的上表面之间夹置有钝化片(6)。

3.根据权利要求1所述的一种肖特基二极管倒晶结构,其特征在于:所述外延层(3)的上表面固定设置有填充槽(10),所述填充槽(10)在外延层(3)的上表面等距设置有多个,所述P型单晶硅(5)对应填充在填充槽(10)的内部,且P型单晶硅(5)的上表面所在面设置与外延层(3)的上表面所在面相同。

4.根据权利要求1所述的一种肖特基二极管倒晶结构,其特征在于:所述外延层(3)的两侧表面下部位置固定设置有嵌槽(9),所述陶瓷(8)的内侧对应嵌槽(9)设置有插板,且陶瓷(8)对应通过插板插置在嵌槽(9)的内部。

5.根据权利要求1所述的一种肖特基二极管倒晶结构,其特征在于:所述衬底(2)的两侧表面下部位置固定设置有另一个嵌槽(9),所述陶瓷(8)的内侧对应衬底(2)两侧的嵌槽(9)设置有插板,且陶瓷(8)对应通过插板插置在衬底(2)两侧嵌槽(9)的内部。

6.根据权利要求1所述的一种肖特基二极管倒晶结构,其特征在于:所述陶瓷(8)的内表面与衬底(2)和外延层(3)整体外表面相互贴合,且陶瓷(8)的外表面所在面设置与封装(7)的外表面所在面相同。

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